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J-GLOBAL ID：200903041785205620
デモザイク処理プロセスにおけるバイラテラルフィルタリング
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
特許業務法人アイ・ピー・エス
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003514501
Publication number (International publication number)：2004536518
Application date： Mar. 20, 2002
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：
【課題】特に異なる色の強度値のモザイクパターンから画像を復元する。【解決手段】カラーモザイクパターン(10)が出力画像(20、22および24)に変換される場合に急峻な強度遷移におけるアーティファクトを低減するために、バイラテラルフィルタリングのフレームワークにデモザイク処理畳み込みカーネル(kp,c)が組込まれる。強度を考慮せずに選択されるウィンドウ内のバイラテラルフィルタリングの結果として、物理的に近接する画素I(a,b)の強度値には、より遠い画素の強度値より大きい重みが与えられ、同時に、量的に類似する(すなわち、測光的に類似する)強度値には、量的に非類似の強度値より大きい重みが与えられる。デモザイク処理操作において測光的類似性を使用することにより、急峻な強度遷移の一方の側の画素に対し補間された強度値を確定する際に、急峻な強度遷移の反対側に対する画素の影響が低減される。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
画像情報を操作する方法であって、
画素位置のモザイクパターンから捕捉される強度値(10)として前記画像情報を受取るステップであって、前記画素位置のモザイクパターンにおいて、前記モザイクパターンの異なる画素位置が異なる色に特有である、受け取るステップと、
前記モザイクパターンの前記画素位置に対し複数の色を表す補間された強度値(20、22および24)を確定することにより前記画像情報をデモザイク処理するステップであって、
補間された強度値(hci,j)の各確定が、特定の前記画素位置(i,j)に特有であり、かつ、近傍の画素位置(a,b)を選択するステップであって、該選択が、前記画素位置の相対位置に基づき、前記近傍内の前記画素位置に対する前記強度値(I(a,b))の測光的類似性とは無関係である、選択するステップと、
前記補間された強度値の前記確定を、前記近傍内の前記画素位置の相対位置と該近傍内の該画素位置に対する前記強度値の前記測光的類似性(40)との両方に基づかせるステップと
を含むデモザイク処理するステップと
を含む方法。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (9)：
5C065BB13
, 5C065CC01
, 5C065DD01
, 5C065DD17
, 5C065EE06
, 5C065EE10
, 5C065GG22
, 5C065GG23
, 5C065GG24
Cited by examiner (8)
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