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J-GLOBAL ID：200903041834808009

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Inventor： 川▲邉▼ ▲隆▼ ,  成重 真治 ,  岩倉 忠幸 ,  小山 直樹 ,  岡井 哲也
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997263695
Publication number (International publication number)：1999102506
Application date： Sep. 29, 1997
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】2μm以下の狭いトラック幅においても高記録磁界、高記録効率等の優れた記録性能を有し、かつ狭い磁極パターンを高精度に形成できる薄膜磁気ヘッドを提供すること。【解決手段】記録トラック幅を決める上部磁気コアを、媒体対向面に露出している第1の部分110と、媒体対向面には露出せず、かつ、第1の部分110よりも幅及び膜厚が大きく、かつ、その先端部分が媒体対向面とスロートハイト=0の点112との間に配置された第2の部分111との2つの部分から構成する。

Claim (excerpt)：

磁気記録媒体に情報を記録する機能を有し、磁気ギャップ膜を挟んで磁気回路を形成する2つの磁性膜を有する薄膜磁気ヘッドにおいて、上記2つの磁性膜のうちの少なくとも1つの磁性膜のスロートハイト=0の点よりも上記磁気記録媒体に対向する面に近い側は、上記磁気記録媒体に対向する面に露出し、記録トラック幅を決める第1の部分と、上記磁気記録媒体に対向する面に露出していない第2の部分とよりなり、該第2の部分の磁路断面積が上記第1の部分の磁路断面積よりも大きいことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

FI (2)：

G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 薄膜磁気ヘッド
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-188139   Applicant：株式会社東芝
• 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-202973   Applicant：富士電気化学株式会社
• 特開昭60-045918
  
• 特開昭52-084722
  

Cited by examiner (4)

• 薄膜磁気ヘッド
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-188139   Applicant：株式会社東芝
• 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-202973   Applicant：富士電気化学株式会社
• 特開昭60-045918
  
• 特開昭52-084722