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J-GLOBAL ID:200903042002623528
パラメトリックX線を利用したアンギオグラフィーシステム
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
役 昌明
, 林 紘樹
, 役 学
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006021031
Publication number (International publication number):2007195888
Application date: Jan. 30, 2006
Publication date: Aug. 09, 2007
Summary:
【課題】アンギオグラフィーシステムにおいて、造影剤のK吸収端エネルギーを跨いだ2色のX線ビームを発生して鮮明な画像を撮影する。【解決手段】100MeVクラスの電子加速器(リニアック)からの電子ビーム1をシリコン単結晶2に照射して、ヨウ素K吸収端を中心エネルギーとするパラメトリックX線を発生させる。低域X線ビームの光路を結晶回折によってシフトさせ、高域X線ビームに重畳する。2色のX線ビームを、サンプル6に照射してイメージ化する。低域X線ビームの画像には造影剤の像は出ず、高域X線ビームの画像には造影剤の像が出る。シャッター8、9、10で2色のX線ビームを切り替えて撮影し、差分を求めることで、造影剤のみの鮮明な吸収画像を得ることができる。加速器および造影剤注入を患者の心拍と同期させることにより、最小の造影剤とX線照射量で心臓血管の静止像が得られる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
造影剤の吸収端エネルギーの波長を跨いだ波長帯のパラメトリックX線ビームを発生して前記吸収端エネルギーより高いエネルギーの高域X線ビームと前記吸収端エネルギーより低いエネルギーの低域X線ビームとを発生するX線ビーム発生手段と、前記高域X線ビームと前記低域X線ビームが重なるように光路を変えるX線ビーム重畳手段と、前記高域X線ビームと前記低域X線ビームを前記造影剤が注入された撮影対象物に照射するための撮影対象物設定手段と、前記撮影対象物を透過した前記高域X線ビームまたは前記低域X線ビームを画像化するために前記撮影対象物の後方に設けたイメージング手段とを具備することを特徴とするアンギオグラフィーシステム。
IPC (5):
A61B 6/00
, G01N 23/04
, G21K 1/00
, G21K 1/06
, G21K 5/02
FI (8):
A61B6/00 333
, A61B6/00 331E
, A61B6/00 350S
, A61B6/00 300A
, G01N23/04
, G21K1/00 X
, G21K1/06 G
, G21K5/02 X
F-Term (25):
2G001AA01
, 2G001BA11
, 2G001CA01
, 2G001DA09
, 2G001EA01
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001HA07
, 2G001HA09
, 2G001HA13
, 2G001HA14
, 2G001JA08
, 2G001KA01
, 2G001LA01
, 4C093AA07
, 4C093AA14
, 4C093AA22
, 4C093AA24
, 4C093CA04
, 4C093CA32
, 4C093DA02
, 4C093EA07
, 4C093FA19
, 4C093FA47
, 4C093FF34
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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多色、特に2色X線を発生させる放射線源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-256373
Applicant:シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
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小型可変エネルギー単色コヒーレントマルチX線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-339792
Applicant:学校法人日本大学
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X線発生方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-192182
Applicant:理学電機株式会社
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アンジオグラフィー装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-028459
Applicant:株式会社東芝
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X線画像撮影装置用単結晶
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-120854
Applicant:新日本製鐵株式会社, 高エネルギー物理学研究所長
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特開昭63-246738
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アンジオグラフィー装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-196198
Applicant:株式会社東芝
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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パラメトリックX線の今後の展望
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日大パラメトリックX線源の現状
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日大パラメトリックX線発生装置の概要
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