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J-GLOBAL ID：200903042006730191

薄膜磁気ヘッドの製造方法

Inventor： 大池 太郎 ,  吉田 誠 ,  宮崎 哲夫 ,  鳴島 伸 ,  宮本 宏之
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 杉村 興作 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001167557
Publication number (International publication number)：2002367114
Application date： Jun. 04, 2001
Publication date： Dec. 20, 2002
Summary：

【要約】【課題】 スロートハイト方向において、均一な磁極幅を有するトリム状の書き込み磁極部を形成するミリング処理を含む薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 薄膜磁気ヘッドを構成する書き込み磁極部10を、前記薄膜磁気ヘッドが形成されるウエハを含む面内方向において、書き込み磁極部の中心軸と略平行な回転基準軸Cから両方向において、好ましくは回転角度αが10度〜135度となるように振り子状に回転させながら、書き込み磁極部10に対してミリング処理を施すことにより、磁極部の幅を規定する。

Claim (excerpt)：

第1の磁性層と、この第1の磁性層に隣接したギャップ層を介して形成された第2の磁性層とを含む書き込み磁極部を具えた薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記書き込み磁極部を、前記薄膜磁気ヘッドが形成されるウエハを含む面方向において、前記書き込み磁極部の中心軸と略平行な回転基準軸から両方向に所定角度をなすように往復回転をさせながら、前記書き込み磁極部をミリング処理することを特徴とする、薄膜磁気ヘッドの製造方法。

F-Term (3)：

5D033BA13 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 磁気ヘッド及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-217229   Applicant：富士通株式会社
• 薄膜磁気ヘッドの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-263770   Applicant：ソニー株式会社
• 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-239233   Applicant：株式会社日立製作所