透明導電膜形成剤、導電性基板および該基板の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三枝英二 (外10名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997159938
Publication number (International publication number)：1999007849
Application date： Jun. 17, 1997
Publication date： Jan. 12, 1999
Summary：

【要約】【目的】パターニングライン頭頂部が基板に対して平行性の高い導電性基板を形成する方法および該導電性基板を提供することを目的とする。【構成】インジウム-スズ-ジケトン複合体からなる透明導電膜形成剤、インジウム-スズ酸化物を基板上にパターン形成してパターニングライン頭頂部が基板に対して平行である導電性基板、およびインジウム-スズ-ジケトン複合体膜を有する基板に紫外線を照射し、非照射部分の前記複合体を洗浄除去し、次いで焼成することを特徴とする、インジウム-スズ酸化物を基板上にパターン化した状態で形成した導電性基板の製造方法により、発光輝度、画像鮮明性およびコスト的に優れた導電性基板を提供することができる。

Claim (excerpt)：

インジウム-スズ-ジケトン複合体からなる透明導電膜形成剤。

IPC (4)：

H01B 13/00 503 , C23C 18/14 , H01B 5/14 , C09K 3/16 102

FI (4)：

H01B 13/00 503 D , C23C 18/14 , H01B 5/14 A , C09K 3/16 102 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

透明導電膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-284457 Applicant：松下電器産業株式会社
特開昭54-150697
透明導電性被膜形成用塗布液及び低反射透明導電膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-113360 Applicant：住友金属鉱山株式会社, 東北化工株式会社

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