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J-GLOBAL ID：200903042084665274

フォーカスモニタマスク及びフォーカスモニタ方法

Inventor：
出羽 恭子

About 出羽 恭子

, 
藤澤 忠仁

About 藤澤 忠仁

, 
井上 壮一

About 井上 壮一


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999375472
Publication number (International publication number)：2001189264
Application date： Dec. 28, 1999
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：
【要約】【課題】符号を含めたフォーカスずれ量を簡易に測定する。【解決手段】フォーカスモニタマークは、周辺部分の半透明膜部801、中央部分の遮光膜部802、そして開口部である第1のモニタマーク101及び第2のモニタマーク102から構成されている。第1のモニタマーク101及び第2のモニタマーク102には、長方形パターン110(110a,110b)と、この長方形パターン110の片側に形成された微細な凸型の先細りパターン111(111a,111b)とから構成されている。なお、第2のモニタマーク102では、半透明膜2を通過する露光光と開口部を通過する露光光とに90度の位相差を付けるために、基板1が例えば124nm堀込まれている。
Claim (excerpt)：
第1の開口部で囲まれた第1の膜で形成、又は第1の膜で囲まれた第1の開口部で形成され、先細りパターンからなる少なくとも1つの第1のモニタマークを含む第1のパターン領域と、第2の膜で囲まれて第2の開口部で形成、または第2の開口部で囲まれて第2の膜で形成され、第1のパターン領域の先細りパターンの先端部とは反対方向を向く先細りパターンからなり、通過する露光光の位相が第1のモニタマークを通過する露光光の位相とは異なる少なくとも1つの第2のモニタマークを含む第2のパターン領域とを含むフォーカスモニタマークを具備してなることを特徴とするフォーカスモニタマスク。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08
FI (2)：
G03F 1/08 P ,  H01L 21/30 526 Z
F-Term (8)：
2H095BA02 ,  2H095BB02 ,  2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H095BE07 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046DA14
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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