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J-GLOBAL ID：200903042462737254

空気中可溶性ガス除去装置

Inventor：
稲葉 仁

About 稲葉 仁

, 
白井 琢也

About 白井 琢也

, 
吉田 隆紀

About 吉田 隆紀


Applicant, Patent owner：
高砂熱学工業株式会社

About 高砂熱学工業株式会社


Agent (1)： 遠山 勉 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997120912
Publication number (International publication number)：1998309432
Application date： May. 12, 1997
Publication date： Nov. 24, 1998
Summary：
【要約】【課題】 気液接触式の空気中可溶性ガス除去装置の除去効率を高く維持する。【解決手段】 外気が流通するチャンバー1内に水循環系3のスプレーノズル9を設置する。ピット5内に貯溜した水をスプレーノズル9からチャンバー1内に噴霧する。チャンバー1内で外気と接触し外気中の可溶性ガスを溶解させた水をピット5に溜め、水循環系3に循環させる。水排水系19にpH検出器21を設け、水供給系15に制御弁17を設け、pH検出器21と制御弁17間はpH制御ユニット23と制御弁調整ユニット25を介して電気的に接続する。水排水系19内の水のpH値をpH検出器21により検出しその検出値に基づいてpH制御ユニット23と制御弁調整ユニット25を介して制御弁17の開閉を制御する。
Claim (excerpt)：
空気中に含まれる可溶性ガスを気液接触により除去する空気中可溶性ガス除去装置であって、(イ)可溶性ガスを含む被処理空気が流通する空気流路と、(ロ)吸収液を空気流路に供給し、吸収液と被処理空気とを気液接触させて被処理空気中の可溶性ガスを吸収液中に溶解させ、可溶性ガスが溶在する吸収液を回収して再び空気流路内に供給する吸収液循環系と、(ハ)吸収液循環系に新しい吸収液を供給する吸収液供給系と、(ニ)吸収液循環系から吸収液を排出する吸収液排出系と、(ホ)流通する吸収液のpH値を検出するpH検出手段と、(へ)前記pH検出手段により検出されたpH値に基づいて、流通する吸収液のpH値を所定の範囲内にする制御手段と、を備えたことを特徴とする空気中可溶性ガス除去装置。
IPC (3)：
B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/77 ZAB ,  B01D 53/18
FI (2)：
B01D 53/34 ZAB E ,  B01D 53/18 E
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 半導体製造装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-131591   Applicant：株式会社日立製作所
  • 液体中和装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-120438   Applicant：オルガノ株式会社
  • 特開昭52-044472
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