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J-GLOBAL ID：200903042501381551

硬質炭素積層膜とその形成方法

Inventor：
寺山 暢之

About 寺山 暢之


Applicant, Patent owner：
神港精機株式会社

About 神港精機株式会社


Agent (1)： 田中 浩 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000021917
Publication number (International publication number)：2001214269
Application date： Jan. 31, 2000
Publication date： Aug. 07, 2001
Summary：
【要約】【課題】 金属基材との密着性にすぐれ、耐摩耗性、潤滑性、耐凝着性などが良好な、摺動部品、耐摩耗性部品として応用することのできる硬質炭素積層膜を提供する。【解決手段】 基材1表面に非晶質炭化珪素膜層2、膜密度が2.2〜3.5g/cm3 であるシリコンを含有する高密度炭素膜層3、膜密度が1.5〜2.2g/cm3 であるシリコンを含有する低密度炭素膜層4を真空蒸着室内にて順次形成して硬質炭素積層膜を得る。
Claim (excerpt)：
基材表面に非晶質炭化珪素膜層、膜密度が2.2〜3.5g/cm3 であるシリコンを含有する高密度炭素膜層、膜密度が1.5〜2.2g/cm3 であるシリコンを含有する低密度炭素膜層を順次被覆形成してなることを特徴とする硬質炭素積層膜。
IPC (3)：
C23C 16/27 ,  C23C 16/42 ,  C23C 28/04
FI (3)：
C23C 16/27 ,  C23C 16/42 ,  C23C 28/04
F-Term (23)：
4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030BA37 ,  4K030BB05 ,  4K030BB12 ,  4K030CA02 ,  4K030CA03 ,  4K030FA01 ,  4K030JA11 ,  4K030JA17 ,  4K030JA18 ,  4K044AA03 ,  4K044BA18 ,  4K044BA19 ,  4K044BB03 ,  4K044BB04 ,  4K044BB17 ,  4K044BC01 ,  4K044BC05 ,  4K044CA07 ,  4K044CA14 ,  4K044CA71
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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