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J-GLOBAL ID：200903042507343414

多重環構造のエーテルモノマー及びポリマー、並びにこれより得られる感光性ポリマー及びレジスト組成物

Inventor：
金 賢友

About 金 賢友

, 
禹 相均

About 禹 相均


Applicant, Patent owner：
三星電子株式会社

About 三星電子株式会社


Agent (4)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004344985
Publication number (International publication number)：2005163042
Application date： Nov. 29, 2004
Publication date： Jun. 23, 2005
Summary：
【課題】 少なくとも1つの多重環構造のアルケニルエーテル及び少なくとも1つのα-フッ化アクリレートを含み、ラジカル(陽イオン性)重合によって感光性ポリマー及びフォトレジスト組成物の製造に適する多様なモノマーを提供する。【解決手段】 ドライエッチング工程で許容可能な耐性を提供し、微細なフォトレジストパターンを形成するためのフォトリソグラフィ工程において、KrFエキシマーレーザー、ArFエキシマーレーザー、またはF2エキシマーレーザーのように多様な光源の使用に適した光透過度を提供するフォトレジスト組成物。多重環構造のアルケニルエーテル及びα-フッ化アクリレートの他に、1つまたはその以上の環状の脂環式及びヘテロサイクル化合物として置換または非置換の構造、特にジヒドロピランを含む追加のモノマーが結合されうる感光性ポリマー。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
次の式Iを有するアルケニルエーテルモノマー及びα-フッ化アクリレートモノマーを含む感光性コポリマー;
IPC (3)：
C08F234/02 ,  C08F220/22 ,  G03F7/039
FI (3)：
C08F234/02 ,  C08F220/22 ,  G03F7/039 601
F-Term (32)：
2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  4J100AL26Q ,  4J100AR32P ,  4J100BA03P ,  4J100BA20P ,  4J100BA22P ,  4J100BB18P ,  4J100BC12Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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