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J-GLOBAL ID：200903069007458393

化学増幅レジスト用コポリマー

Inventor：
ヒロシ・イトウ

About ヒロシ・イトウ


Applicant, Patent owner：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

About インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション


Agent (1)： 坂口 博 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003050104
Publication number (International publication number)：2003292542
Application date： Feb. 26, 2003
Publication date： Oct. 15, 2003
Summary：
【要約】【課題】 リソグラフィ用フォトレジスト組成物、特に化学増幅フォトレジストで使用するためのコポリマーを提供すること。【解決手段】 好ましい実施形態において、コポリマーは、遠紫外線、すなわち157nm、193nmおよび248nmを含む、250nmより短い波長の放射線に対して実質的に透明であり、また感応性および解像度が向上している。一実施形態において、コポリマーは、α-シアノ-またはα-トリフルオロ-メタクリレートモノマー単位とビニルエーテルモノマー単位からなる。フッ素化コポリマーを含むリソグラフィ用フォトレジスト組成物もまた、基板上にレジスト像を形成するために、すなわち集積回路の製造などにおいて前記組成物を用いるプロセスが提供されると同様、提供される。
Claim (excerpt)：
式(I)の構造を有し、【化1】前式において、R1が、H、F、CN、CH3、またはC1〜6フルオロアルキルであり、R2aおよびR2bが、独立に、HまたはFであり、またR3が、CNまたはCOORであって、RはH、C1〜12アルキルおよびC1〜12フルオロアルキルからなる群から選択されるか、あるいはR3を酸開裂性とするように選択される第1のモノマー、ならびに式(II)の構造を有し、【化2】前式において、R4が、H、C1〜12アルキル、C3〜15脂環式基、またはフッ素化C3〜15脂環式基であり、R5が、C1〜12アルキル、1〜12個のフッ素原子および0〜2個のヒドロキシ基で置換されたC1〜12アルキル、またはC3〜15脂環式基であるか、あるいはR4およびR5が全体として5、6、または7員環を形成し、R6が、H、C1〜12アルキル、またはC1〜12フルオロアルキルであるか、あるいはR4およびR6が全体として5、6、または7員環を形成し、またR7が、H、C1〜12アルキル、またはC1〜12フルオロアルキルであるか、あるいはR7およびR5が全体として-X-(CR8R9)n-を表し、この場合、R4およびR6はHであり、XはOまたはCH2であり、nは1または2であり、R8およびR9は、H、C1〜12アルキル、またはC1〜12フルオロアルキルであるか、あるいは全体としてオキソ部分(=O)を形成し、R8およびR9が全体として=Oを形成する場合、nが1である第2のモノマーとの共重合により調製されるコポリマーであって、R1、R3、R4、R5、R6、およびR7の何れも、水素以外の不活性な置換基でさらに置換されていてもよいコポリマー。
IPC (7)：
C08F220/10 ,  C08F216/16 ,  C08F220/44 ,  C08F232/04 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (7)：
C08F220/10 ,  C08F216/16 ,  C08F220/44 ,  C08F232/04 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (39)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  4J100AE02R ,  4J100AE09R ,  4J100AE26R ,  4J100AE29R ,  4J100AE32R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AM02P ,  4J100AM03P ,  4J100AR03S ,  4J100AR32S ,  4J100BA03R ,  4J100BA40P ,  4J100BA40Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB07R ,  4J100BC02R ,  4J100BC53S ,  4J100BC58S ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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