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J-GLOBAL ID：200903042593843866

減衰する埋め込まれた移相フォトマスク・ブランク

Inventor： カーシア,ピーター・フランシス ,  フレンチ,ロジヤー・ハークエイル
Applicant, Patent owner： イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
Agent (1)： 小田島 平吉 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997542466
Publication number (International publication number)：2000511301
Application date： May. 09, 1997
Publication date： Aug. 29, 2000
Summary：

【要約】波長<400nmにおいて少なくとも0.001の光学的透過率を有して、180°の移相を作り出しうる減衰する埋め込まれた移相フォトマスク・ブランクは、光学的に透明な材料及び光学的に吸収性の材料の、周期的なまたは非周期的な交互の層を含んでなり、そして光学的に透明な材料及び光学的に吸収性の材料を、好ましくは蒸着により基板上に付着させることによって製造される。

Claim (excerpt)：

光学的に透明な材料及び光学的に吸収性の材料の交互の層を含んでなる、選択されたリソグラフィー波長(<400nm)において少なくとも0.001の光学的透過率を有して、180°の移相を作り出しうる減衰する埋め込まれた移相フォトマスク・ブランク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 位相シフトマスクとその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-063580   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 露光マスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-043449   Applicant：富士通株式会社
• ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-003976   Applicant：大日本印刷株式会社
• 位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-031428   Applicant：大日本印刷株式会社
• 減衰型位相シフトマスクおよびそれを製造するためのプロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-130616   Applicant：アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド
• フォトマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-222381   Applicant：日本電気株式会社