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J-GLOBAL ID：200903042602483690

レーザ光照射装置

Inventor： 永井 豊 ,  土屋 勝寛 ,  高原 良之 ,  山岸 和男 ,  戸井田 武志
Applicant, Patent owner： 日本光電工業株式会社
Agent (1)： 本田 崇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999065246
Publication number (International publication number)：2000258334
Application date： Mar. 11, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ビーム幅のばらつきのないレーザ光を計測領域に照射すること。【解決手段】 半導体レーザ1A、光学素子1E、スリット部材1Fは同一光軸上に配置されて保持手段1Hに保持されている。また、半導体レーザ1Aと光学素子1Eとの間の距離を調整し、ビームウエストの位置を調整する焦点距離調整機構部1Gを備えている。ここで、粒子の流れ位置による散乱光強度のばらつきをなくすために、粒子に照射するビーム幅をサンプル流の幅に比較して十分大きくしている。半導体レーザ1Aから射出された光は光学素子1Eにより計測領域で集光される。サンプル流に直交する方向のビーム幅はスリット部材1Fにより決定される。

Claim (excerpt)：

粒子が通過する計測領域にレーザ光を照射することにより発生する散乱光および蛍光を検出することにより前記粒子の分類を行うようにした粒子分類装置のレーザ光照射装置において、半導体レーザ光源と、該半導体レーザ光源から射出された光を前記計測領域に集める光学素子と、光照射範囲を制限するスリット部材を備え、前記半導体レーザ光源と、前記光学素子と、前記スリット部材とが同一光軸上に配置されるようにこれらを一体に保持する保持手段とを具備することを特徴とするレーザ光照射装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 粒子分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-089227   Applicant：東亜医用電子株式会社
• 特開平2-040535
  
• 真空中パーティクルカウンタ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-079912   Applicant：土屋政義
• 半導体レーザモジュール
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-098049   Applicant：日本板硝子株式会社