排ガスの脱塩処理方法および廃棄物処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：吉岡宏嗣 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999091126
Publication number (International publication number)：2000279753
Application date： Mar. 31, 1999
Publication date： Oct. 10, 2000
Summary：

【要約】【課題】埋立て不要とする脱塩残渣の処理方法を提供するとともに、脱塩残渣に含まれる有害物を除去する。【解決手段】排ガスG6にナトリウム系の脱塩剤gを投入し、この排ガスに含まれる塩化水素を脱塩残渣hとして除去し、除去された脱塩残渣hに水iを加えて溶解し、生成した水溶液jから非水溶性成分kを分離し、非水溶性成分kを分離した残りの水溶液lのpHを調整した後水銀およびダイオキシン類を除去し排出する。脱塩剤gは、10μm以下の粒径に粉砕された後に排ガスG6に投入される。

Claim (excerpt)：

排ガスにナトリウム系の脱塩剤を投入し、該排ガスに含まれる塩化水素を脱塩残渣として除去し、該除去された脱塩残渣に水を加えて溶解し、前記脱塩残渣が溶解された水溶液から水に溶けない非水溶性成分を分離し、該非水溶性成分を分離した残りの水溶液のpHを調整した後、該pH調整された水溶液からダイオキシン類を除去することを特徴とする排ガスの脱塩処理方法。

IPC (6)：

B01D 53/68 , F23G 5/00 ZAB , F23G 5/00 115 , F23G 5/027 ZAB , F23G 5/14 ZAB , F23J 15/00

FI (6)：

B01D 53/34 134 A , F23G 5/00 ZAB , F23G 5/00 115 Z , F23G 5/027 ZAB Z , F23G 5/14 ZAB F , F23J 15/00 Z

F-Term (51)：

3K061AB02 , 3K061AB03 , 3K061AC01 , 3K061AC13 , 3K061BA05 , 3K061BA07 , 3K061BA10 , 3K061DA02 , 3K061DA03 , 3K061DA13 , 3K061DA14 , 3K061DA18 , 3K061FA10 , 3K070DA01 , 3K070DA05 , 3K070DA07 , 3K070DA12 , 3K070DA16 , 3K070DA27 , 3K070DA43 , 3K070DA44 , 3K070DA45 , 3K070DA48 , 3K070DA49 , 3K078AA05 , 3K078BA03 , 3K078BA21 , 3K078BA26 , 3K078CA21 , 3K078CA24 , 4D002AA02 , 4D002AA19 , 4D002AA21 , 4D002AA28 , 4D002AC04 , 4D002AC10 , 4D002BA04 , 4D002BA14 , 4D002CA01 , 4D002CA07 , 4D002DA02 , 4D002DA16 , 4D002DA26 , 4D002DA35 , 4D002DA41 , 4D002EA02 , 4D002GA01 , 4D002GA03 , 4D002GB09 , 4D002GB12 , 4D002HA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開平4-141284
流動層ボイラ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-070968 Applicant：株式会社明電舎
特開昭60-038024

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