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J-GLOBAL ID:200903042772011172
光干渉計の干渉位相検出方式
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
飯塚 義仁
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998289741
Publication number (International publication number):2000121317
Application date: Oct. 12, 1998
Publication date: Apr. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】 測定面の反射率が変動した場合でも、正確にその段差間距離又は突起物の高さに相当する位相差を測定できるようにする。【解決手段】 レーザ光はビームスプリッタによって互いに偏光面が直交するように分岐される。分岐されたレーザ光に対して周波数変調が加えられ、参照面と測定面に照射される。参照面と測定面で反射したレーザ光同士の干渉波形を観察することによって測定面の段差間距離又は突起物の高さなどに相当する位相差を検出する。このとき、参照面は常に同じ面なので、その反射率は一定であるのに対して、測定面の反射率は常に変動する。反射率が低下すると反射光のショットノイズ成分によって干渉波形のS/N指数が著しく低下する。従って、この発明では測定面の反射率の変動に応じて分岐前のレーザ光をその光軸を中心に所定角度だけ回転させる偏光角調整手段を設けた。このように参照面及び測定面に照射されるレーザ光の強度を調節することによって、反射光のショットノイズによる影響を少なくし、干渉波形のS/N指数が著しく低下しないようにした。
Claim (excerpt):
レーザ光を分岐し、分岐されたレーザ光を異なる周波数で変調し、参照面と測定面に照射し、そこからのそれぞれの反射光の干渉成分を受光することによって測定面の位相を検出する光干渉計の干渉位相検出方式において、前記測定面の反射率に応じて前記分岐前のレーザ光をその光軸を中心に所定角度だけ回転させる偏光角調整手段を設けたことを特徴とする光干渉計の干渉位相検出方式。
IPC (3):
G01B 11/00
, G01B 9/02
, G01B 11/30
FI (3):
G01B 11/00 G
, G01B 9/02
, G01B 11/30 D
F-Term (31):
2F064AA09
, 2F064CC01
, 2F064CC10
, 2F064FF01
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG33
, 2F064GG34
, 2F064GG38
, 2F064GG70
, 2F064HH05
, 2F065AA49
, 2F065BB03
, 2F065CC03
, 2F065DD04
, 2F065EE03
, 2F065FF49
, 2F065FF52
, 2F065GG04
, 2F065HH04
, 2F065HH13
, 2F065JJ15
, 2F065LL12
, 2F065LL33
, 2F065LL34
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL46
, 2F065LL57
, 2F065NN08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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ヘテロダイン2波長変位干渉計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-109873
Applicant:株式会社ニコン
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光へテロダイン干渉を利用する測定方法及びそれを用いた測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-017131
Applicant:キヤノン株式会社
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回動物体の位置検出装置と位置決め装置及びそれを用いた情報記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-194715
Applicant:キヤノン株式会社
-
スペックル干渉装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-247248
Applicant:キヤノン株式会社
-
偏光干渉計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-016169
Applicant:株式会社島津製作所
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バンプ高さ測定方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-136567
Applicant:株式会社東京精密
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特開平4-066807
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特開昭60-209103
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干渉計装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-041605
Applicant:富士写真光機株式会社
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スライダー浮上量測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-275434
Applicant:ホーヤ株式会社
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位置検出装置及びマーク検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-231591
Applicant:株式会社ニコン
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光ヘテロダイン式変位量検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-292008
Applicant:ホーヤ株式会社
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