投影レンズの収差測定方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋明夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997085042
Publication number (International publication number)：1998284368
Application date： Apr. 03, 1997
Publication date： Oct. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】レンズの結像特性を改善して、集積回路パターンの精度を向上する。【解決手段】光軸方向の互いに異なる複数の位置におけるマスクパターン投影像の光学像強度分布から、位相回復の手法を用いて投影レンズの収差を求め、この情報を用いて、上記投影レンズやマスクパターンの形状を調整する。【効果】投影レンズの収差を正確に測定することができ、得られるパターンの精度と均一性が大幅に向上する。

Claim (excerpt)：

所定のパターンを有するマスクを光で照明して、上記パターンを投影レンズによって上記マスクの結像面近傍に結像させ、光軸に垂直で上記結像面近傍の複数の平面における上記パターンの投影像の光強度分布をそれぞれ測定し、上記複数の平面における投影像光強度分布から、位相回復法によって上記結像面付近もしくは上記投影レンズの瞳付近の光学像複素振幅分布を求め、当該光学像複素振幅分布から上記投影レンズの波面収差を求めることを特徴とする投影レンズの収差測定方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G02B 3/00 , G02B 13/00

FI (5)：

H01L 21/30 515 D , G02B 3/00 Z , G02B 13/00 , H01L 21/30 502 W , H01L 21/30 516 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

投影光学系のコマ収差を検出する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-177558 Applicant：キヤノン株式会社
投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-237162 Applicant：株式会社ニコン
露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-318163 Applicant：株式会社日立製作所

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