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J-GLOBAL ID:200903043060584270
有機半導体装置
Inventor:
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,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
井上 一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001340671
Publication number (International publication number):2003142692
Application date: Nov. 06, 2001
Publication date: May. 16, 2003
Summary:
【要約】【課題】 有機半導体層を用いた新規な有機半導体装置を提供する。【解決手段】 本発明の有機半導体装置100は、基板10に設けられた凹部20に配置された有機半導体層80と、ドレイン電極30およびソース電極50と、有機半導体層80に対してゲート絶縁層60を介して配置されたゲート電極40と、を含む。
Claim (excerpt):
基板に設けられた凹部に配置された有機半導体層と、ドレイン電極およびソース電極と、前記有機半導体層に対してゲート絶縁層を介して配置されたゲート電極と、を含む、有機半導体装置。
IPC (2):
FI (6):
H01L 29/78 618 B
, H01L 29/28
, H01L 29/78 618 C
, H01L 29/78 616 T
, H01L 29/78 617 N
, H01L 29/78 626 C
F-Term (20):
5F110AA16
, 5F110CC09
, 5F110CC10
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110DD21
, 5F110DD30
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE08
, 5F110EE29
, 5F110EE44
, 5F110FF01
, 5F110GG05
, 5F110GG42
, 5F110HK01
, 5F110HK02
, 5F110HK07
, 5F110HK33
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-180085
Applicant:富士通株式会社
-
半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-352273
Applicant:シャープ株式会社
-
装置、有機トランジスタ及び能動有機デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-138784
Applicant:ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-303217
Applicant:株式会社リコー
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