パターン検出方法及びパターン検出装置及びそれを用いた投影露光装置及び露光システム

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993225432
Publication number (International publication number)：1995086126
Application date： Sep. 10, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】半導体回路のウエハ上のパタ-ンの位置、幅、間隔等を正確に検出し、微細なパタ-ンの重ね露光や、形成されたパタ-ンの高精度な評価を実現すること。【構成】ウエハ等の被検物体への照明光または、及び被検物体からの反射光を所望の分光照度または分光透過率にし、膜構造に伴う多重反射による検出波形の歪みが除去できるようにする。また各波長で検出の開口数を変え、各波長での像の解像度を一致させる。また、分光手段で分離した各波長の一次元像に対し、信号処理により各波長のパタ-ン信号強度比を変えて画像合成する。また検出光学系で発生している色収差を、分離された各波長のパタ-ン信号の時間軸(パタ-ン上では位置座標軸)に補正を掛けることにより色収差補正する。【効果】ウエハ等のパタ-ンの位置を正確に検出することが可能になり、半導体回路の露光がより微細なパタ-ンに対し高い歩留で実現可能になり、また検査等がより信頼性高く、高精度に実現できるようになった。

Claim (excerpt)：

波長幅の広い光源もしくは実効的に複数の単波長を含む光源から出射した光を、層構造から成りその表面の最上層の少なくとも一部が光学的に透明である被検物体に照明し、該被検物体で反射した光を用いて該被検物体表面のパタ-ンを検出するパタ-ン検出方法において、該被検物体の層構造および材質の情報に応じて上記光源から出射する光の分光照明強度特性(波長強度分布特性)を実効的に変化せしめ、当該変化により得られた所望の分光照明強度で照射された被検物体のパタ-ン像を一次元もしくは二次元の像として検出することを特徴とするパタ-ン検出方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

光投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-304500 Applicant：株式会社日立製作所
光投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-343741 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭64-086518

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Cited by examiner (1)

光投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-304500 Applicant：株式会社日立製作所

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