マグネトロン型誘導結合方式放電反応装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：坂間暁 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995020219
Publication number (International publication number)：1996217594
Application date： Feb. 08, 1995
Publication date： Aug. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】太陽電池、薄膜トランジスタ、等の各種電子デバイスの製造に適用されるマグネトロン型誘導結合方式放電反応装置に関し、プラズマ分布を均一化し、均一な成膜を製造する。【構成】反応容器11には反応ガス導入管17と排気管18があり、反応ガスが封入される。内部には基板ヒータ13が電源108で加熱され、基板10、高周波電源14に接続した電極12が平行に配置される。電極12は多数の閉路で構成され、電源14により各閉路に方向の異る電界(E)が発生する。励磁コイル100a,100bは交流電源108により励磁され、回転磁界(B)が発生し、この回転磁界(B)は電界(E)及び基板10と直交する方向に発生する。一方、電極12にはプラズマが発生し、このプラズマはE×Bドリフトを受け、移動するが電界の方向が異る方向であり、一方向のみ移動せず、プラズマ分布が均一化する。

Claim (excerpt)：

電極及び基板を内蔵する反応容器と、同電極に高周波電力を供給する電源と、前記反応容器内で前記基板に成膜するために所定の反応ガスを供給する反応ガス供給手段と、同供給手段で供給された反応容器内の反応ガスを排出する手段と、前記反応容器の周囲に配置され、前記電極により生ずる電界と直交する磁界を発生させる電磁コイルとを具備したマグネトロン型放電反応装置において、前記電極は複数の閉路で構成され、放電電界の方向が複数方向となる誘導結合方式電極であり、かつ、前記電磁コイルは同コイルが発生する磁界の方向が前記電極で発生する放電電界及び前記基板の面と直交するように配置されてなることを特徴とするマグネトロン型誘導結合方式放電反応装置。

IPC (7)：

C30B 25/02 , B01J 19/08 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/3065 , H01L 21/31 , H05H 1/46

FI (7)：

C30B 25/02 P , B01J 19/08 G , C23C 16/50 , C23F 4/00 G , H01L 21/31 C , H05H 1/46 B , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平1-159379
特開平4-236781
電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-253141 Applicant：三菱重工業株式会社

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