Pat
J-GLOBAL ID:200903043643096222

金属クラスター担持金属酸化物担体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  関根 宣夫 ,  西山 雅也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005138499
Publication number (International publication number):2006314885
Application date: May. 11, 2005
Publication date: Nov. 24, 2006
Summary:
【課題】 デンドリマーを用いて得られる金属クラスターの担体表面での表面拡散及びシンタリングを防ぐ、金属クラスター担持金属酸化物担体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の金属クラスター担持金属酸化物担体の製造方法は、(a)デンドリマー10に第1の金属のイオンを配位させ、(b)デンドリマーに配位された第1の金属のイオンを還元させて、デンドリマー内で第1の金属のクラスター6aを析出させ、(c)デンドリマーに更に、第2の金属のイオン8を配位させ、そして(d)このデンドリマーを含有する溶液を、金属酸化物担体9上で乾燥及び焼成することを含む。ここで、第2の金属の酸化物は、金属酸化物担体を構成する金属酸化物と同じ又は複合酸化物を形成する。また本発明の金属クラスター担持金属酸化物担体では、第1の金属のクラスター6aが、金属酸化物担体9上の第2の金属8の酸化物によって保持されている。【選択図】 図5
Claim (excerpt):
(a)デンドリマーを含有する溶液に第1の金属のイオンを添加して、前記デンドリマーに第1の金属のイオンを配位させ、 (b)工程(a)で得た溶液に還元剤を添加して、デンドリマーに配位された第1の金属のイオンを還元させ、デンドリマー内で第1の金属のクラスターを析出させ、 (c)工程(b)で得た溶液に第2の金属のイオンを添加して、第1の金属のクラスターを保持しているデンドリマーに、第2の金属のイオンを配位させ、そして (d)工程(c)で得た溶液を、金属酸化物担体上で乾燥及び焼成して、第1の金属のクラスター及び第2の金属の酸化物を金属酸化物担体上に担持させること、 を含み、前記第2の金属の酸化物が、前記金属酸化物担体を構成する金属酸化物と同じ金属酸化物、又は前記金属酸化物担体を構成する金属酸化物と複合酸化物を形成する金属酸化物である、金属クラスター担持金属酸化物担体の製造方法。
IPC (4):
B01J 23/42 ,  B01J 23/63 ,  B01J 37/03 ,  B01J 37/16
FI (4):
B01J23/42 A ,  B01J23/56 301A ,  B01J37/03 Z ,  B01J37/16
F-Term (30):
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BA22A ,  4G169BA22B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC33A ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169BE40A ,  4G169BE40B ,  4G169CA09 ,  4G169DA05 ,  4G169EB20 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB05 ,  4G169FB08 ,  4G169FB15 ,  4G169FB30 ,  4G169FB31 ,  4G169FB43
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page