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J-GLOBAL ID:200903043769971188
ビームスプリッタ及びそれを用いたレーザ墨出し器
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (3):
板谷 康夫
, 田口 勝美
, 水田 愼一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006143797
Publication number (International publication number):2007315844
Application date: May. 24, 2006
Publication date: Dec. 06, 2007
Summary:
【課題】ビームスプリッタにおいて、部品点数を少なくし、小型化を図り、また、そのビームスプリッタを用いたレーザ墨出し器において、小型化を図ると共に、温度変化等の環境ストレスによる影響を受け難くして、安定動作を得る。【解決手段】ビームスプリッタ1は、断面略直角三角形の柱状のプリズム2及びプリズム3から構成され、斜面に薄膜を蒸着形成し、斜面同士を貼り合わせて成り、斜面の面22に形成された薄膜で反射した光が次に当る面23に、透過光と反射光に分岐する薄膜を蒸着形成する。レーザ墨出し器は、上記1つのビームスプリッタ1を用いて、入射光を3方向に分岐し、ビームスプリッタ1の透過光で、垂直基準ライン41を照射する。これにより、レーザ墨出し器の小型化が図れると共に、温度変化等の環境ストレスによる影響を受け難くなる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
断面が略直角三角形の柱状の2つのプリズムから構成され、少なくとも一方のプリズムの斜面に、該斜面を反射する光と透過する光に分岐するように薄膜を蒸着形成し、かつ、これら2つのプリズムの斜面同士を貼り合わせたビームスプリッタにおいて、
該スプリッタに入射した光のうち、前記斜面に形成された薄膜で反射した光が、次に当る該スプリッタの平面に、該光を透過光と反射光に分岐する薄膜を蒸着形成したことを特徴とするビームスプリッタ。
IPC (3):
G01C 15/00
, G01C 15/02
, G02B 5/04
FI (4):
G01C15/00 103C
, G01C15/02
, G02B5/04 B
, G02B5/04 A
F-Term (3):
2H042CA06
, 2H042CA14
, 2H042CA17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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色検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-096930
Applicant:三菱重工業株式会社
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投写型画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-137695
Applicant:パイオニア株式会社
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レーザ墨出し器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-177152
Applicant:松下電工株式会社
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レーザー墨出し器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-291359
Applicant:松下電工株式会社
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Cited by examiner (9)
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レーザ墨出し表示器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-033829
Applicant:アルプス電気株式会社
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ビームスプリッタユニット及びそれを搭載したレーザ墨出し装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-031306
Applicant:日立工機株式会社
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光源装置及び表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-328437
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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レーザ測量機
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-247306
Applicant:旭光学工業株式会社, 旭精密株式会社
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レーザ墨出し装置の電源部とレーザー駆動回路基板との配線構造
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-325574
Applicant:松下電工株式会社
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特表平7-503314
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特表平7-503314
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電子部品及び装着パターンの位置検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-338148
Applicant:株式会社日立製作所
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特表平7-503314
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