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J-GLOBAL ID：200903043793097189

レジスト材料及びパターン形成方法

Inventor： 前田 和規 ,  永田 岳志 ,  渡辺 聡 ,  大澤 洋一 ,  渡辺 淳 ,  名倉 茂広
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000245566
Publication number (International publication number)：2001125258
Application date： Aug. 14, 2000
Publication date： May. 11, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【解決手段】 光酸発生剤として下記一般式(1)で示されるスルホニルジアゾメタン化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。(式中R1,R3は炭素数1〜10のアルキル基、あるいは炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基。R2は、炭素数1〜6のアルキル基。GはSO2又はCO。pは0〜4、qは1〜5の整数であり、1≦p+q≦5。nは1又は2、mは0又は1。また、n+m=2。)【効果】 本発明のスルホニルジアゾメタンを用いた化学増幅型レジスト材料は、分子内にスルホン酸エステル基を含有することより、解像性、焦点余裕度に優れ、PEDが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少なく、塗布後、現像後、剥離後の異物が少なく、現像後のパターンプロファイル形状に優れ、微細加工に適した高解像性を有し、特に遠紫外線リソグラフィーにおいて大いに威力を発揮する。

Claim (excerpt)：

光酸発生剤として下記一般式(1)で示されるスルホニルジアゾメタン化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。【化1】(式中R1は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状の置換もしくは非置換のアルキル基、あるいは炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。R2は同一でも異なってもよく、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。GはSO2又はCOを示し、R3は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状の置換もしくは非置換のアルキル基、あるいは炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。pは0〜4の整数、qは1〜5の整数であり、1≦p+q≦5である。nは1又は2であり、mは0又は1である。また、n+m=2である。)

IPC (12)：

G03F 7/004 503 ,  C08F 8/00 ,  C08F 12/22 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/04 ,  C08K 5/101 ,  C08K 5/103 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (12)：

G03F 7/004 503 A ,  C08F 8/00 ,  C08F 12/22 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/04 ,  C08K 5/101 ,  C08K 5/103 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 化学増幅型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-198979   Applicant：東京応化工業株式会社
• 感放射線性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-189479   Applicant：三菱化学株式会社
• レジスト材料用酸発生剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-342117   Applicant：和光純薬工業株式会社