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J-GLOBAL ID:200903043819619669
液体導入プラズマトーチ
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
河西 祐一
, 横山 正治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003272898
Publication number (International publication number):2005031020
Application date: Jul. 10, 2003
Publication date: Feb. 03, 2005
Summary:
【課題】液体を直接プラズマ中に導入し、極めて少ない液体でも、高い分析能力を得ること。【解決手段】プラズマ4を生じさせる液体導入プラズマトーチにおいて、プラズマ発生室2を形成するプラズマトーチ本体1と、噴霧口36からプラズマ発生室2内に液体を噴霧する噴霧装置3とを備え、噴霧口36の位置を調整可能とする、液体導入プラズマトーチ。【選択図】図1
Claim (excerpt):
プラズマを生じさせる液体導入プラズマトーチにおいて、
プラズマ発生室を形成するプラズマトーチ本体と、
噴霧口からプラズマ発生室内に液体を噴霧する噴霧装置とを備え、
噴霧口の位置を調整可能とすることを特徴とする、液体導入プラズマトーチ。
IPC (3):
G01N21/73
, H01J49/10
, H05H1/26
FI (3):
G01N21/73
, H01J49/10
, H05H1/26
F-Term (14):
2G043AA01
, 2G043BA01
, 2G043CA03
, 2G043DA05
, 2G043EA08
, 2G043GA06
, 2G043GA11
, 2G043GA19
, 2G043GB01
, 2G043GB02
, 2G043GB16
, 2G043KA02
, 2G043KA05
, 5C038GG09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開昭63-210754
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ICP発光分光分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-261754
Applicant:株式会社島津製作所
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ICPトーチ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-130527
Applicant:横河電機株式会社
-
誘導結合プラズマ発光分析方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-146231
Applicant:セイコー電子工業株式会社
-
元素分析用プラズマトーチ及びこれを用いた元素分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-135366
Applicant:株式会社日立製作所
-
電気泳動を結合させた噴霧器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-299378
Applicant:株式会社日立製作所
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