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J-GLOBAL ID：200903044054878543

シャワーヘッド式CVD装置

Inventor： 新井 朝子 ,  松本 功 ,  田渕 俊也
Applicant, Patent owner： 日本酸素株式会社
Agent (1)： 木戸 一彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995020820
Publication number (International publication number)：1996218171
Application date： Feb. 08, 1995
Publication date： Aug. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 原料をシャワーヘッド状のノズルから噴出して基板上に薄膜を形成するシャワーヘッド式CVD装置において、良質な薄膜を形成するとともに、成膜速度の向上を図る。【構成】 所定温度に加熱された基板に対向配置されるシャワーヘッドノズルに、冷却油流路14及び放熱ロッド17からなる冷却手段を設ける。

Claim (excerpt)：

原料ガスを噴出するシャワーヘッドノズルを、所定温度に加熱された基板に対向配置したシャワーヘッド式CVD装置において、前記シャワーヘッドノズルに、ノズルを冷却する冷却手段を備えたことを特徴とするシャワーヘッド式CVD装置。

IPC (3)：

C23C 16/44 ,  C30B 25/10 ,  H01L 21/205

FI (3)：

C23C 16/44 D ,  C30B 25/10 ,  H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 気相成長装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-005891   Applicant：株式会社東芝
• 特開昭63-297563
  
• 処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-180670   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
• 特開昭63-297563