自動露光機の吸着式基板搬送装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：恩田博宣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994275392
Publication number (International publication number)：1996137114
Application date： Nov. 09, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：

【要約】【目的】露光工程におけるレジストの取られを確実に防止することができる自動露光機の吸着式基板搬送装置を提供すること。【構成】自動露光機1の吸着式基板搬送装置としてのスタンパ5は、液状フォトレジストが塗布された基板としての銅張積層板2を真空吸着し、その吸着された銅張積層板2をアライメントステージ4上まで搬送する。スタンパ5の吸着面5aには、フッ素ゴムのコーティングによる保護膜15が形成されている。従って、吸着面5aに半硬化状態のフォトレジストが付着しにくくなる。

Claim (excerpt)：

レジストが塗布された基板を真空吸着し、その吸着された基板をアライメントステージ上まで搬送する自動露光機の吸着式基板搬送装置において、前記吸着式基板搬送装置の吸着面にフッ素樹脂加工を施した自動露光機の吸着式基板搬送装置。

IPC (4)：

G03F 9/00 , H01L 21/027 , H01L 21/68 , H05K 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平4-307552
吸着装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-303843 Applicant：東芝機械株式会社
特開昭62-040458

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