X線分析装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤本英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999142737
Publication number (International publication number)：2000329713
Application date： May. 24, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】試料を光学的に観察する場合、これを見やすくするとともに、測定の妨げとなるシステムピークを生じさせないようにして、所望のX線分析を確実にしかも精度よく行うことができるX線分析装置を提供すること。【解決手段】試料12が配置される試料室11と、前記試料12に対して照射される一次X線aが通過するとともに、この一次X線aが試料12に照射されたときに生ずる二次X線bを検出するX線検出器14が配置されたX線照射室7とをX線透過性の隔膜10で区画するとともに、前記X線照射室7内を真空状態にしてなるX線分析装置において、前記隔膜10を、Na〜Uまでの元素を含まない樹脂よりなる補強部材25によって補強するようにしている。

Claim (excerpt)：

試料が配置される試料室と、前記試料に対して照射される一次X線が通過するとともに、この一次X線が試料に照射されたときに生ずる二次X線を検出するX線検出器が配置されたX線照射室とをX線透過性の隔膜で区画するとともに、前記X線照射室内を真空状態にしてなるX線分析装置において、前記隔膜を、Na〜Uまでの元素を含まない樹脂よりなる透明な補強部材によって補強するようにしたことを特徴とするX線分析装置。

F-Term (22)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001CA01 , 2G001DA02 , 2G001EA03 , 2G001GA01 , 2G001GA08 , 2G001GA16 , 2G001HA09 , 2G001JA14 , 2G001KA01 , 2G001NA05 , 2G001NA14 , 2G001NA16 , 2G001PA01 , 2G001PA07 , 2G001PA11 , 2G001PA14 , 2G001SA01 , 2G001SA02 , 2G001SA13 , 2G001SA29

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

蛍光X線分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-173546 Applicant：株式会社堀場製作所
放射線透過窓構体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-307470 Applicant：株式会社東芝
特公平3-035774

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