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J-GLOBAL ID：200903044261455113

プラズマ処理の異常監視システム

Inventor：
屋良 卓也

About 屋良 卓也


Applicant, Patent owner：
積水化学工業株式会社

About 積水化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003300316
Publication number (International publication number)：2005072263
Application date： Aug. 25, 2003
Publication date： Mar. 17, 2005
Summary：
【課題】 プラズマ処理異常の精確に監視し、異常が検出された場合には、迅速に対処して、被処理基板の汚染を最小限に抑えることができるプラズマ処理の異常監視システムを提供する。【解決手段】 プラズマ処理装置の異常監視システムであって、プラズマ処理部近傍において、プラズマ処理により発生するパーティクル量を計測するパーティクル計測手段と、前記パーティクル計測手段による計測結果に基づいて、プラズマ処理における異常発生を検出する異常検出手段とを備えていることを特徴とするシステム。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
プラズマ処理装置の異常監視システムであって、 プラズマ処理部近傍において、プラズマ処理により発生するパーティクル量を計測するパーティクル計測手段と、 前記パーティクル計測手段による計測結果に基づいて、プラズマ処理における異常発生を検出する異常検出手段とを備えていることを特徴とするシステム。
IPC (6)：
H01L21/3065 ,  C23C14/00 ,  C23C16/44 ,  C23F4/00 ,  H01L21/205 ,  H05H1/00
FI (6)：
H01L21/302 103 ,  C23C14/00 B ,  C23C16/44 J ,  C23F4/00 A ,  H01L21/205 ,  H05H1/00 A
F-Term (32)：
4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BD01 ,  4K029DA09 ,  4K029EA00 ,  4K029EA09 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030JA17 ,  4K030JA20 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K057DA01 ,  4K057DA16 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DJ08 ,  4K057DM36 ,  4K057DM38 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004AA13 ,  5F004BA20 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004CB20 ,  5F045AA03 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045GB04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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