プラズマ処理方法およびその装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995063718
Publication number (International publication number)：1996106992
Application date： Mar. 23, 1995
Publication date： Apr. 23, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】採光窓の光透過特性の変化の影響を受けることなく、プラズマ発光をモニタする手段を備えたプラズマ処理装置を提供する。【構成】プラズマ処理装置を、内部を観察するための対向する一対の窓部を有する処理室2と、この処理室内でプラズマを発生させるプラズマ発生ユニットと、処理室の外部にあって窓部を介してプラズマの発光をモニタするプラズマ発光モニタユニットと、処理室の外部にあってプラズマ発光モニタユニットと反対の側から対向する一対の窓部1を介してプラズマ発光モニタユニットに参照光8を照射する参照光照射ユニットと、モニタしたプラズマの発光と参照光とのデータを比較して、プラズマ処理状態を制御する制御ユニット11とを備えて構成した。

Claim (excerpt)：

基板をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、プラズマ処理室内で発生しているプラズマの発光と、前記プラズマ処理室の外部の光源から発射して前記プラズマ処理室内部を通過したスペクトルが既知の光とを検出し、前記プラズマの発光と前記スペクトル既知の光とのそれぞれのスペクトルの差を求め、該スペクトルの差から前記プラズマ処理室の内部状態を判定することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (6)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平3-181127
ドライエッチング方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-288377 Applicant：沖電気工業株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-135881 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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