分離膜及びその製造方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002053296
Publication number (International publication number)：2003251162
Application date： Feb. 28, 2002
Publication date： Sep. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】従来の膜と比較して高い性能を有する、新規な分離膜及びその製造方法の提供。【解決手段】35keV〜50keVの電子線加速電圧の条件下に、常圧下での1MRad以下の電子線照射処理を施し結果、膜の表面にダメージを与えずに、膜を改質することができ、その結果、良好なガス分離が可能となる良好な高分子分離膜を得る。

Claim (excerpt)：

分離膜を製造後、常圧下で1MRad以下の電子線照射処理を施した後、ビニル化合物モノマーをグラフト重合処理して得られるものであることを特徴とする分離膜。

IPC (14)：

B01D 67/00 500 , B01D 53/22 , B01D 61/14 , B01D 61/36 , B01D 71/02 , B01D 71/26 , B01D 71/28 , B01D 71/40 , B01D 71/44 , B01D 71/64 , B01D 71/68 , C08F283/00 , C08J 7/18 CEZ , C08L101:00

FI (14)：

B01D 67/00 500 , B01D 53/22 , B01D 61/14 , B01D 61/36 , B01D 71/02 , B01D 71/26 , B01D 71/28 , B01D 71/40 , B01D 71/44 , B01D 71/64 , B01D 71/68 , C08F283/00 , C08J 7/18 CEZ , C08L101:00

F-Term (37)：

4D006GA06 , 4D006GA25 , 4D006GA41 , 4D006MA03 , 4D006MA06 , 4D006MC02X , 4D006MC03X , 4D006MC21X , 4D006MC24X , 4D006MC36X , 4D006MC37X , 4D006MC58X , 4D006MC61X , 4D006MC62X , 4D006MC82 , 4D006NA05 , 4D006NA42 , 4D006NA45 , 4D006NA55 , 4D006NA64 , 4F073AA05 , 4F073BA29 , 4F073BA31 , 4F073BA32 , 4F073BB04 , 4F073CA51 , 4F073FA03 , 4F073FA09 , 4J026AB28 , 4J026AB34 , 4J026AB40 , 4J026BA05 , 4J026BA25 , 4J026BA27 , 4J026BA40 , 4J026CA09 , 4J026DB06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

特開平1-061918
特開昭58-209123
特開昭62-254807

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Cited by examiner (7)

特開平1-061918
特開平1-061918
特開昭58-209123

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