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J-GLOBAL ID：200903048464420485

分離膜及びその製造方法

Inventor： 柳下 宏 ,  北本 大 ,  池上 徹 ,  根岸 秀之 ,  原谷 賢治 ,  荒井 純子
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002053219
Publication number (International publication number)：2003251163
Application date： Feb. 28, 2002
Publication date： Sep. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】膜の表面を特定の範囲の電子線照射処理を施すことによる改質の結果、従来の膜と比較して高い性能を有する、新規な分離膜及びその製造方法の提供【解決手段】35keV〜50keVの加速電圧の電子照射装置を用い、電子線照射量を常圧下で1.0MRad以下の条件下に膜の表面を処理することにより、分離能などの点で良好な結果を得ることができる。

Claim (excerpt)：

分離膜を製造後、照射線量が、常圧下で1MRad以下の電子線照射処理を施すことにより得られるものであるを特徴とする分離膜。

IPC (7)：

B01D 69/02 ,  B01D 67/00 500 ,  B01D 71/02 ,  B01D 71/02 500 ,  B01D 71/04 ,  B01D 71/64 ,  B01D 71/68

FI (7)：

B01D 69/02 ,  B01D 67/00 500 ,  B01D 71/02 ,  B01D 71/02 500 ,  B01D 71/04 ,  B01D 71/64 ,  B01D 71/68

F-Term (20)：

4D006GA06 ,  4D006GA25 ,  4D006GA41 ,  4D006MA06 ,  4D006MB09 ,  4D006MB15 ,  4D006MC03X ,  4D006MC04X ,  4D006MC35X ,  4D006MC37X ,  4D006MC45X ,  4D006MC54X ,  4D006MC58X ,  4D006MC62X ,  4D006MC82 ,  4D006NA42 ,  4D006NA46 ,  4D006NA64 ,  4D006PB13 ,  4D006PB63

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

• 特開平1-171605
  
• 電子線照射方法および架橋または硬化方法、ならびに電子線照射物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-336295   Applicant：東洋インキ製造株式会社
• 気体透過性中空糸膜の製造方法とその製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-191561   Applicant：日新電機株式会社
• 気体分離膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-317829   Applicant：王子製紙株式会社
• 分離膜とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-217037   Applicant：株式会社クラレ
• 分離膜及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-053296   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Cited by examiner (3)

• 特開平1-171605
  
• 特開平1-171605
  
• 電子線照射方法および架橋または硬化方法、ならびに電子線照射物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-336295   Applicant：東洋インキ製造株式会社