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J-GLOBAL ID：200903044818984017
回折格子形成用位相マスク
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998010365
Publication number (International publication number)：1999212246
Application date： Jan. 22, 1998
Publication date： Aug. 06, 1999
Summary：
【要約】【課題】 位相マスクの表面に異物や光ファイバーから昇華された樹脂等が付着しても形成される回折格子に欠陥が生じ難い回折格子形成用位相マスク。【解決手段】 透明基板の1面に格子状の凹溝26と凸条27の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光相互の干渉縞により回折格子を形成する位相マスク21において、凹溝26と凸条27の繰り返しパターンが設けられた表面上に光学的に透明な保護層30が設けられてなる回折格子形成用位相マスク。
Claim (excerpt)：
透明基板の1面に格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光相互の干渉縞により回折格子を形成する位相マスクにおいて、凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられた表面上に光学的に透明な保護層が設けられてなることを特徴とする回折格子形成用位相マスク。
IPC (2)：
FI (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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特開昭58-198007
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回折格子
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-111426
Applicant：株式会社三協精機製作所
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特開平2-228602
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