眼屈折力測定装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008188545
Publication number (International publication number)：2009078129
Application date： Jul. 22, 2008
Publication date： Apr. 16, 2009
Summary：

【課題】被検眼の不正乱視についての解析を精度よく行う。【解決手段】被検眼の瞳孔中心部から被検眼眼底にスポット状の測定光束を投光し被検眼瞳孔の周辺部から所定のパターン形状を持つ眼底反射光束を取り出して二次元撮像素子に受光させることによりパターン画像を二次元撮像素子によって撮像させる測定光学系と、測定光学系における投光光路と受光光路との共通光路に配置され、かつ、瞳孔と共役位置から外れた位置に配置された光束偏向部材を持ち、所定のパターン形状を持つ反射光束が被検眼瞳孔上で偏心回転されるように前記光束偏向部材を回転させる回転手段と、二次元撮像素子に受光された前記パターン画像を測定画像として記憶する記憶手段と、測定画像を解析することにより被検眼の屈折力と該屈折力以外の被検眼の角膜または/及び水晶体の情報とを取得する解析手段と、を備える。【選択図】図9

Claim (excerpt)：

被検眼の瞳孔中心部から被検眼眼底にスポット状の測定光束を投光し被検眼瞳孔の周辺部から所定のパターン形状を持つ眼底反射光束を取り出して二次元撮像素子に受光させる,もしくは被検眼瞳孔の周辺部から所定のパターン形状を持つ測定光束を投光することにより被検眼の眼底に所定のパターン像を投影しその眼底反射像を二次元撮像素子に受光させることにより眼屈折力測定用パターン画像を二次元撮像素子によって撮像させる測定光学系と、前記測定光学系の光路に配置され、かつ瞳孔と共役位置から外れた位置に配置された光束偏向部材を持ち、前記所定のパターン形状を持つ反射光束もしくは投光光束が被検眼瞳孔上で偏心回転されるように前記光束偏向部材を回転させる回転手段と、前記光束偏向部材を介して二次元撮像素子に受光された前記パターン画像を測定画像として記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された前記測定画像を解析することにより被検眼の屈折力と該屈折力以外の被検眼の角膜または/及び水晶体の情報とを取得する解析手段と、該解析手段によって解析された結果を出力する出力手段と、を備えることを特徴とする眼屈折力測定装置。

IPC (1)：

A61B 3/10

FI (3)：

A61B3/10 M , A61B3/10 Z , A61B3/10 H

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

眼科用測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-115684 Applicant：キヤノン株式会社
眼屈折力測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-280971 Applicant：株式会社ニデック
眼屈折力測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-194207 Applicant：株式会社ニデック

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Cited by examiner (5)

眼屈折力測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-280971 Applicant：株式会社ニデック
眼屈折力測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-194207 Applicant：株式会社ニデック
眼屈折力測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-430787 Applicant：株式会社ニデック

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