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J-GLOBAL ID：200903045124047489

光断層画像化装置

Inventor：
戸井田 昌宏

About 戸井田 昌宏


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001122696
Publication number (International publication number)：2002031597
Application date： Apr. 20, 2001
Publication date： Jan. 31, 2002
Summary：
【要約】【課題】 低コヒーレンス干渉を用いて断層情報を取得する光断層画像化装置において、大型で高価な光源を使用せずに、高い分解能で断層情報を取得する。【解決手段】 ファイバカプラ201 において、光源部100 から出射された低コヒーレンス光を、被測定部12に照射する信号光と、ピエゾ素子203 で周波数シフトされる参照光とに分割し、また、被測定部12の所定の深部で反射された信号光と参照光とを合波する。この合波された干渉光の光強度をバランス差分検出部500 で検出し、信号処理部600 で画像処理を行い、画像表示部700 に断層画像として表示する。パルス光源部110 から射出されるパルス光は、パルス幅圧縮部120において、チャープドファイバブラッググレーティング125〜128を伝搬し、パルス幅が圧縮され、コヒーレンス長が短くなる。このパルス光を低コヒーレンス光として用いるため、低コヒーレンス干渉における分解能が高くなる。
Claim (excerpt)：
低コヒーレンス光を射出する光源部と、前記低コヒーレンス光を信号光と参照光に分割し、前記参照光の周波数と前記信号光の周波数に差が生じるように、前記参照光または信号光の少なくとも一つの周波数をシフトさせ、前記信号光を被測定部に照射し、前記信号光の前記被測定部の所定の深部からの反射光と前記参照光とを干渉させる分波・合波部と、前記反射光と参照光の干渉光の光強度を測定し、該光強度に基づいて、前記被測定部の光断層画像を取得する画像検出部とを有する光断層画像化装置において、前記光源部が、パルス光を射出するパルス光源部と、該パルス光を伝搬させる光導波路構造体とを備えてなるものであり、前記光導波路構造体が、前記パルス光の波長帯域の光に対して正常分散特性を有する材質から構成され、かつ前記パルス光の波長帯域に対して異常分散特性を有する構造を備え、前記パルス光のパルス幅を圧縮するものであることを特徴とする光断層画像化装置。
IPC (3)：
G01N 21/17 630 ,  A61B 10/00 ,  G01N 21/35
FI (3)：
G01N 21/17 630 ,  A61B 10/00 E ,  G01N 21/35 Z
F-Term (21)：
2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF08 ,  2G059GG01 ,  2G059GG08 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  2G059KK03 ,  2G059LL02 ,  2G059LL04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM17 ,  2G059PP04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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