Pat
J-GLOBAL ID:200903045167710025

レーザ走査干渉計

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 木戸 一彦 ,  木戸 良彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007158236
Publication number (International publication number):2008309668
Application date: Jun. 15, 2007
Publication date: Dec. 25, 2008
Summary:
【課題】横分解能が極めて高く、高精細、高コントラストの干渉波形が得られるレーザ走査干渉計を提供する。【解決手段】レーザ光源12からのレーザ光をコリメータレンズ13で平行レーザ光束Bとし、走査ミラー15で走査光B1〜B3に変換し、テレセントリックfθレンズ16を通して参照面17a及び被観察面18aに照射する。参照面17a及び被観察面18aからの反射光は、テレセントリックfθレンズ16で反射平行光束Brとなり、走査ミラー15で反射し、ビームスプリッタ14を通過して結像レンズ20で集光され、ピンホール21aを通過して受光素子22に入射する。受光素子22で反射平行光束Brの光量を計測して演算手段を含む制御部23に送信し、制御部23で受光素子22から得た光量信号を時系列データとして取得し、データ処理を行って表示手段24に明暗データからなる干渉波形を出力する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
レーザ光源を用いた共焦点光学系を備えたレーザ走査干渉計であって、レーザ光を平行光束として出力するレーザ光源部と、該レーザ光源部からのレーザ光を反射して走査光に変換する走査ミラーと、該走査ミラーからの走査光を参照面及び被観察面に照射するテレセントリックfθレンズと、該テレセントリックfθレンズの焦点面近傍に近接配置された前記参照面及び被観察面と、該参照面及び被観察面からの反射光を前記テレセントリックfθレンズにより平行光束に変換し、前記走査ミラーで反射させた後に前記レーザ光源部からのレーザ光と分離するビームスプリッタと、該ビームスプリッタで分離した前記反射光を集光する結像レンズと、前記テレセントリックfθレンズの焦点面と共役の位置に設置したスリットと、前記結像レンズにより集光されて前記スリットを通過した前記反射光の光量を計測する受光素子と、該受光素子で計測した光量をA/D変換して前記走査ミラーの走査角度に対応した時系列データとして記憶する演算手段と、該演算手段に記憶した前記時系列データを干渉波形として表示する表示手段とを備えていることを特徴とするレーザ走査干渉計。
IPC (3):
G01B 9/02 ,  G01B 11/24 ,  G02B 21/06
FI (3):
G01B9/02 ,  G01B11/24 D ,  G02B21/06
F-Term (55):
2F064AA09 ,  2F064CC02 ,  2F064CC04 ,  2F064EE05 ,  2F064EE10 ,  2F064FF01 ,  2F064FF06 ,  2F064GG12 ,  2F064GG20 ,  2F064GG22 ,  2F064GG44 ,  2F064GG47 ,  2F064GG52 ,  2F064GG61 ,  2F064HH05 ,  2F064JJ01 ,  2F065AA53 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065DD09 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065GG23 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ17 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL13 ,  2F065LL20 ,  2F065LL30 ,  2F065LL59 ,  2F065LL62 ,  2F065LL65 ,  2F065MM03 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065MM28 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS06 ,  2F065SS13 ,  2F065UU06 ,  2F065UU07 ,  2H052AA04 ,  2H052AA08 ,  2H052AC15 ,  2H052AC34 ,  2H052AF04 ,  2H052AF14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page