処理システム

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森純一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000037271
Publication number (International publication number)：2000340633
Application date： Feb. 15, 2000
Publication date： Dec. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】システムの増減をダイナミックに且つ効率的に行うことができる処理システムの提供。【解決手段】処理ステーション2a、2b、2cの一側面側の後部には、加熱・冷却兼用処理ユニット(CHP)12a〜12jが多段に配置された処理ユニット群12が配置されている。また、他側面側の中央部には、受け渡し台13が配置されている。更に、前面側の上部には、処理ユニット14等が配置されている。また、ほぼ中央には、垂直搬送型の搬送装置15が配置されている。このような同一構成の複数の処理ステーション2a、2b、2cを連接可能であるので、システムの増減をダイナミックに且つ効率的に行うことができる。

Claim (excerpt)：

側面が相互に隣接するように連接された複数の処理ステーションと、これら連接された処理ステーションのうち両端の処理ステーションの側面に隣接するように配置され、該処理ステーションとの間で基板を搬入出するための基板搬入出部とを備え、前記各処理ステーションが、当該処理ステーションの一側面側に配置され、基板に少なくとも熱的処理を施す処理ユニットを含む複数の第1の処理ユニットが多段に配置された第1の処理ユニット群と、当該処理ステーションの他側面側に配置され、少なくとも隣接する処理ステーションとの間で基板の受け渡しを行うための基板受け渡し台と、当該処理ステーションの前面側及び背面側のうち一方側に配置され、基板に少なくとも所定の液を供給する第2の処理ユニットと、当該処理ステーションのほぼ中央に配置され、前記第1及び第2の処理ユニット並びに当該処理ステーション及び隣接する処理ステーションの前記基板受け渡し台との間で基板を搬送する搬送装置とを具備することを特徴とする処理システム。

IPC (3)：

H01L 21/68 , B65G 49/07 , H01L 21/027

FI (4)：

H01L 21/68 A , B65G 49/07 C , H01L 21/30 502 J , H01L 21/30 562

F-Term (34)：

5F031CA02 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA16 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031HA58 , 5F031HA59 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA06 , 5F031MA13 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031NA02 , 5F031PA05 , 5F031PA06 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD06 , 5F046JA22 , 5F046KA04 , 5F046KA07 , 5F046KA10 , 5F046LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-312658 Applicant：東京エレクトロン株式会社
処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-231898 Applicant：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-049443 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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