Pat

J-GLOBAL ID：200903068690100354

処理装置

Inventor： 飽本 正巳
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996231898
Publication number (International publication number)：1998074818
Application date： Sep. 02, 1996
Publication date： Mar. 17, 1998
Summary：

【要約】【課題】 スループットの低下を招くことなく、かつ被処理基板に悪影響を与えることなく、しかもスペースコストの増大を招くことなく冷却待ち状態の被処理基板を保持することができる処理装置の提供。【解決手段】 クーリングユニット(COL)の冷却処理部52に対する冷却処理が集中し、冷却待ち状態のウエハWが発生した場合に、かかる冷却待ち状態のウエハWについてはクーリングユニット(COL)内に設けられた退避部58に一時的に退避するようにしている。

Claim (excerpt)：

加熱された被処理基板の冷却処理を行う冷却処理部と、前記冷却処理部の上方に位置し、次に冷却処理が行われる被処理基板を一時的に退避させる退避部と、前記冷却処理部及び前記退避部に対して前記被処理基板の搬入及び搬出を行う搬送手段とを具備することを特徴とする処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 562

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-323704   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 加熱処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-043557   Applicant：東芝機械株式会社
• 排気方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-186241   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-262555
  
• 搬送方法及び搬送装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-046413   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社