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J-GLOBAL ID：200903010568539894

処理装置

Inventor：
飽本 正巳

About 飽本 正巳

, 
出口 洋一

About 出口 洋一


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996312658
Publication number (International publication number)：1998144763
Application date： Nov. 11, 1996
Publication date： May. 29, 1998
Summary：
【要約】【課題】極めてスループットが高く、かつ多様性の高い処理が可能な処理装置を提供すること。【解決手段】処理装置は、鉛直方向に沿って延在する搬送路22a,22bと、この搬送路22a,22bの周囲に配置され、各々被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを鉛直方向に積層して構成される複数の処理部G1〜G10と、搬送路22a,22bを移動するとともに、前記複数の処理部の各処理ユニットに対して被処理体を搬入出する主搬送機構21a,21bとを備えた複数の処理セット20a,20bを有し、さらに、隣接する処理セット間で被処理体を搬送するセット間搬送機構を有する。
Claim (excerpt)：
被処理体に対して複数工程からなる処理を施す処理装置であって、鉛直方向に沿って延在する搬送路と、この搬送路の周囲に配置され、各々被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを鉛直方向に積層して構成される複数の処理部と、前記搬送路を移動するとともに、前記複数の処理部の各処理ユニットに対して前記被処理体を搬入出する主搬送機構と、を備えた複数の処理セットを有し、さらに、隣接する処理セット間で被処理体を搬送するセット間搬送機構を有することを特徴とする処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/027
FI (2)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 基板処理装置および基板処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-303488   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平3-095039
  • カセット搬送装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-324955   Applicant：株式会社島津製作所
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Cited by examiner (5)
  • 基板処理装置および基板処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-303488   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平3-095039
  • 特開平3-095039
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