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J-GLOBAL ID：200903045700856673

露光装置、露光方法、並びにデバイス製造方法

Inventor：
長坂 博之

About 長坂 博之


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004200318
Publication number (International publication number)：2005045232
Application date： Jul. 07, 2004
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：
【課題】 気泡等の発生を抑制しつつ投影光学系と基板との間に素早く液浸領域を形成できる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、基板P上に形成された液浸領域の液体1と投影光学系PLとを介してパターンの像を基板P上に投影露光するものであって、パターンの像が投影される投影領域AR1の両側に、液体1を供給するための供給口13A、14Aを有し、両側の供給口13A、14Aから同時に供給可能な液体供給機構を備えている。液体供給機構による液体1の供給は、両側の供給口13A、14Aのうちの一方の供給口13Aのみで開始される。投影光学系に対向して配置された物体、例えば基板を移動しながら、液体を供給してもよい。気泡等の発生を抑制しつつ投影光学系の像面側の光路空間を素早く液体で満たすことができる。【選択図】 図4
Claim (excerpt)：
液体を介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置であって: 前記パターンの像を基板上に投影する投影光学系と; 前記投影光学系によりパターンの像が投影される投影領域の両側に液体を供給するための供給口をそれぞれ有し、それらの供給口から液体を供給する液体供給機構とを備え; 液体供給機構が液体の供給を開始するときは、液体供給機構は前記両側の供給口のうちの一方のみから液体を供給する露光装置。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
F-Term (4)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB26
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (1)
  • 露光装置及び露光方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-185389   Applicant：キヤノン株式会社

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