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J-GLOBAL ID:200903018338959291
露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004051576
Publication number (International publication number):2005109426
Application date: Feb. 26, 2004
Publication date: Apr. 21, 2005
Summary:
【課題】 投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、所定パターンの像を液体1を介して基板Pに投影することによって基板を露光する。露光装置は、投影する投影光学系と、基板上の一部に液浸領域AR2を形成するために基板上に液体を供給する液体供給機構とを備える。液体供給機構は、投影領域AR1に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で基板P上に液体1の供給を同時に行う。露光装置は、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出等を防止して精度良く露光処理できる。【選択図】 図4
Claim (excerpt):
所定パターンの像を液体を介して基板に投影することによって基板を露光する露光装置であって:
前記パターンの像を基板に投影する投影光学系と;
投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液浸領域を形成するために、投影領域に対して異なる複数の方向に離れた複数の位置で基板上に液体の供給を同時に行う液体供給機構と;を備える露光装置。
IPC (2):
FI (3):
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 514E
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (10)
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国際公開第99/49504号パンフレット
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投影露光装置及び露光方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-239562
Applicant:株式会社ニコン
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投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-341445
Applicant:株式会社ニコン
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露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-151985
Applicant:株式会社ニコン
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液浸型露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-121757
Applicant:株式会社ニコン
-
原盤露光装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-076450
Applicant:日立マクセル株式会社
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パターン形成方法及びその露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-008136
Applicant:株式会社日立製作所
-
液浸式投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-296518
Applicant:キヤノン株式会社
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特開昭62-065326
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特開昭57-153433
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Cited by examiner (9)
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投影露光装置及び露光方法
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Application number:特願平10-239562
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Application number:特願平9-121757
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特開昭62-065326
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