Pat
J-GLOBAL ID：200903062179474167

露光装置及び露光方法

Inventor：
中野 一志

About 中野 一志


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (4)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003185389
Publication number (International publication number)：2005019864
Application date： Jun. 27, 2003
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：
【課題】液浸法を適用した露光装置において、投影光学系の最終面と基板との間隙をより確実に液体で満たす。【解決手段】露光装置は、投影光学系4の周辺かつ前記投影光学系から見て第1方向に配置された液体供給ノズル5を備える。基板ステージ10が基板9を第1方向の反対方向である第2方向に向かって移動させる際に、液体供給ノズル5を通して基板9の表面上に液体が供給され該表面上に液膜fが形成される。ここで、基板9の移動に伴って液膜fが連続的に広がるように、液体供給ノズル5を通して基板9の表面上に液体が連続的に供給される。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する露光装置であって、 基板を保持し移動させる基板ステージと、 液体供給ノズルを有し前記基板の表面上に液体を供給して前記表面上に液膜を形成する液体供給部と、 を備え、前記液体供給ノズルは、前記投影光学系の周辺かつ前記投影光学系から見て第1方向に配置されており、 前記液体供給部は、前記基板ステージが前記基板を前記第1方向の反対方向である第2方向に向かって移動させる際に、前記基板の移動に伴って前記液膜が連続的に広がるように、前記液体供給ノズルを通して前記基板の表面上に液体を連続的に供給するように構成されていることを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2)：
H01L21/30 514C ,  G03F7/20 521
F-Term (4)：
5F046BA04 ,  5F046CC01 ,  5F046DA07 ,  5F046DA27
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
Show all
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM