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J-GLOBAL ID:200903046014558247
可視光半導体レーザ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996084730
Publication number (International publication number):1997246653
Application date: Mar. 13, 1996
Publication date: Sep. 19, 1997
Summary:
【要約】【課題】 半導体層表面の平坦性を向上させ、これにより高信頼性の可視光半導体レーザを提供する。【解決手段】 本可視光半導体レーザは、Ga As 基板上に、Ga InPAs活性層と活性層を挟む(Alx Ga1-x )Z In1-Z P1-Y AsY とからなるクラッド層とを備えている。例えば、本可視光半導体レーザ30は、n-Ga As 基板32上に順次格子整合させて形成した、n-(Alx Ga1-x )0.5 In 0.5P0.95As0.05からなる下部クラッド層34と、真性Ga InPAsからなる活性層36と、p-(Alx Ga1-x )0.5 In 0.5P0.95As0.05からなる上部クラッド層38と、p-Ga InPからなるバッファ層40と、及び、p-GaAs からなるコンタクト層42とから構成されている。
Claim (excerpt):
Ga As 基板上に、Ga InPAs活性層と、活性層を挟む(Alx Ga1-x )Z In1-Z P1-Y AsY からなるクラッド層とを備えることを特徴とする可視光半導体レーザ。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-122379
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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特開平4-039986
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半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-305673
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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