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J-GLOBAL ID：200903046107669871

ケイ素を製造及び/又は精製するための電解質及び方法

Inventor： オルセン,エスペン
Applicant, Patent owner： シンヴェント エイエス
Agent (3)： 津国 肇 ,  篠田 文雄 ,  束田 幸四郎
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003502269
Publication number (International publication number)：2004532933
Application date： Jun. 03, 2002
Publication date： Oct. 28, 2004
Summary：

高級ケイ素の製造に特に適した、高温でケイ素を製造又は精製するための電解質。この電解質は、主にCaCl2及びCaOの塩融成物を含む。本発明はさらに、高温で塩融成物中でケイ素を製造する方法であって、リン及びホウ素の含有量が低い石英をそのような融成物中で電気分解に付す方法に関する。最後に、本発明は、ケイ素を精製する方法であって、精製されるケイ素を、上記の融成物を含む電解槽で使用される陽極のための合金元素として使用する方法に関する。

Claim (excerpt)：

高温でケイ素を製造又は精製するための電解質であって、主にCaCl2及びCaOの塩融成物を含むことを特徴とする電解質。

IPC (2)：

C25C3/34 ,  C25C7/02

FI (2)：

C25C3/34 Z ,  C25C7/02 308Z

F-Term (7)：

4K058AA11 ,  4K058BA33 ,  4K058BB06 ,  4K058CB05 ,  4K058CB08 ,  4K058EB13 ,  4K058ED04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特公昭43-004106
  
• 高純度シリコン及び高純度チタンの製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-262720   Applicant：日本碍子株式会社
• ケイ素の精製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-189174   Applicant：エルケム・アクシエセルスカプ
• 高純度金属Siの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-346044   Applicant：株式会社神戸製鋼所