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J-GLOBAL ID:200903046350704871

塗布方法及びスロットダイ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小林 和憲
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002002822
Publication number (International publication number):2003200097
Application date: Jan. 09, 2002
Publication date: Jul. 15, 2003
Summary:
【要約】【課題】 スロットダイコーターで精度良く薄層を塗布する。【解決手段】 下流側リップランド19のランド長さILOを50μmとしたスロットダイ13で、ウエブ12上に塗布液14を40m/分で塗布し、湿潤膜厚5μmの薄膜塗布を実施した。ウエブ12にはセルローストリアセテート基材を用いた。塗布前に長鎖アルキル変性ポバールの2重量%溶液を塗布、乾燥し、ラビング処理を施した。塗布液には液晶化合物のメチルエチルケトン溶液を使用した。塗布は可能であり、その際の減圧度は2000Paで、形成されるビードの状態は良好であった。
Claim (excerpt):
バックアップロールに支持されて連続走行するウェブの表面にスロットダイの先端リップの平坦部を近接させて、前記先端リップのスロットから塗布液を塗布する方法において、前記ウェブの進行方向側の先端リップの平坦部のウェブ走行方向における長さを30μm以上100μm以下とすることを特徴とする塗布方法。
IPC (2):
B05C 5/02 ,  B05D 1/26
FI (2):
B05C 5/02 ,  B05D 1/26 Z
F-Term (13):
4D075AC03 ,  4D075AC05 ,  4D075AC72 ,  4D075AC93 ,  4D075CA47 ,  4D075DA04 ,  4D075DB31 ,  4D075DC27 ,  4F041AA12 ,  4F041AB02 ,  4F041BA12 ,  4F041BA17 ,  4F041BA21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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