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J-GLOBAL ID：200903046395003050

汚染物質を除去するためのシステムおよび方法

Inventor： セルジ,ジヨン・イー ,  ゴードリユー,ジヨン ,  グツドウイン,ウイリアム ,  キシユコビツチ,オレグ・ピー ,  キンケード,デボン・エイ
Applicant, Patent owner： インテグリス・インコーポレーテッド
Agent (6)： 川口 義雄 ,  小野 誠 ,  渡邉 千尋 ,  金山 賢教 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2007527676
Publication number (International publication number)：2008504718
Application date： Jun. 07, 2005
Publication date： Feb. 14, 2008
Summary：

本発明は、半導体処理装置内のガスから汚染物質を除去するための装置を含むシステムおよび方法を提供する。この装置は、少なくとも2つの並列フィルタステージが内部に設置されたフィルタユニットを含むことができる。フィルタステージは、貫流するガス中に存在する汚染物質の少なくとも一部を除去するように設計される。この装置は、フィルタステージ間にガスフローを分配するフローコントローラを備えることもできる。一実施形態では、コントローラは拡散プレートで構成することができる。本発明は、本発明のシステムまたは方法におけるガスフロー制御のためのサンプリングチューブオリフィスも提供する。他の実施形態では、クリーンルーム内のガスから汚染物質を除去するための装置は、ガスが装置を通過するときにガス内の汚染物質の少なくとも一部を除去するために使用される少なくとも2つの並列フィルタステージを有するフィルタユニットを含む。

Claim (excerpt)：

半導体処理装置内のガスから汚染物質を除去する装置であって、 複数の並列フィルタステージが内部に設置され、貫流する前記ガスから前記汚染物質の少なくとも一部を除去するフィルタユニットと、 前記並列フィルタステージを通して前記ガスフローを分配するフローコントローラと を含む、装置。

IPC (7)：

H01L 21/306 ,  B01D 46/42 ,  B01D 53/14 ,  B01D 53/04 ,  G01N 30/00 ,  G01N 30/88 ,  G01N 30/04

FI (9)：

H01L21/302 101H ,  B01D46/42 Z ,  B01D53/14 A ,  B01D53/04 A ,  G01N30/00 C ,  G01N30/88 201G ,  G01N30/88 201X ,  G01N30/88 101J ,  G01N30/04 A

F-Term (21)：

4D012BA03 ,  4D012CA10 ,  4D012CB02 ,  4D012CB09 ,  4D012CH01 ,  4D020AA08 ,  4D020BA21 ,  4D020CA01 ,  4D020CA03 ,  4D020CD02 ,  4D058JA12 ,  4D058JA14 ,  4D058JA32 ,  4D058KB01 ,  4D058KB11 ,  4D058QA01 ,  4D058QA17 ,  4D058SA04 ,  4D058TA02 ,  4D058TA03 ,  5F004AA13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 空気清浄装置及び処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-307235   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 酸性ポリマーと物理吸着媒体の両方を使用するフィルター
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-581958   Applicant：エクストラクシヨン・システムズ・インコーポレーテツド