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J-GLOBAL ID：200903046463027787

レーザを用いた成分分析方法

Inventor：
出口 祥啓

About 出口 祥啓

, 
吉川 孝三

About 吉川 孝三


Applicant, Patent owner：
工業技術院長

About 工業技術院長


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000175665
Publication number (International publication number)：2001349832
Application date： Jun. 12, 2000
Publication date： Dec. 21, 2001
Summary：
【要約】【課題】 ガス中に含まれる成分の濃度を高感度かつ安定に計測することができるレーザを用いた成分分析方法を提供する。【解決手段】 レーザ光を測定対象物に照射し、測定対象物に含まれる成分をプラズマ化させ、そのプラズマ光を分光することにより、測定対象物中の成分を検出するレーザを用いた成分分析方法において、各成分元素からの発光ラインに関し、発光に起因する上位エネルギ準位に対応した遅れ時間および計測時間をそれぞれ設定し、設定した遅れ時間および計測時間と測定対象物に含まれる複数の成分原子の比とを用いて、測定対象物中の各成分の濃度をそれぞれ計測する。
Claim (excerpt)：
レーザ光を測定対象物に照射し、測定対象物に含まれる成分をプラズマ化させ、そのプラズマ光を分光することにより、測定対象物中の成分を検出するレーザを用いた成分分析方法において、各成分元素からの発光ラインに関し、発光に起因する上位エネルギ準位に対応した遅れ時間および計測時間をそれぞれ設定し、設定した遅れ時間および計測時間と測定対象物に含まれる複数の成分原子の比とを用いて、測定対象物中の各成分の濃度をそれぞれ計測することを特徴とするレーザを用いた成分分析方法。
IPC (2)：
G01N 21/63 ,  G01N 21/71
FI (2)：
G01N 21/63 Z ,  G01N 21/71
F-Term (15)：
2G043AA01 ,  2G043BA07 ,  2G043CA01 ,  2G043DA05 ,  2G043EA10 ,  2G043FA03 ,  2G043GA08 ,  2G043GB21 ,  2G043HA01 ,  2G043HA02 ,  2G043JA01 ,  2G043KA09 ,  2G043LA03 ,  2G043NA01 ,  2G043NA06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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