点回折干渉計、並びに、それを利用した露光装置及び方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤元亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004055264
Publication number (International publication number)：2005241603
Application date： Feb. 27, 2004
Publication date： Sep. 08, 2005
Summary：

【課題】ピンホールからの射出波面の理想球面波に対する誤差を低減して、被検光学系の光学性能を高精度に測定することが可能な点回折干渉計、それを利用した露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法を提供する。【解決手段】被検光学系を通過した波面と、ピンホールから発生する参照波面とを干渉させ、干渉縞の光強度分布より前記被検光学系の光学性能を測定する点回折干渉計であって、楕円率を、前記ピンホールへの入射光の直線偏光方向に垂直な方向におけるピンホールの径/入射偏光方向のピンホールの径と定義した場合に、前記ピンホールは1.05≦楕円率≦1.16を満足することを特徴とする点回折干渉計を提供する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被検光学系を通過した波面と、ピンホールから発生する参照波面とを干渉させ、干渉縞の光強度分布より前記被検光学系の光学性能を測定する点回折干渉計であって、楕円率を、前記ピンホールへの入射光の直線偏光方向に垂直な方向におけるピンホールの径/入射偏光方向のピンホールの径と定義した場合に、前記ピンホールは1.05≦楕円率≦1.16を満足することを特徴とする点回折干渉計。

IPC (2)：

G01B9/02 , H01L21/027

FI (3)：

G01B9/02 , H01L21/30 516A , H01L21/30 531A

F-Term (16)：

2F064AA00 , 2F064BB04 , 2F064CC10 , 2F064EE10 , 2F064HH03 , 2F064HH08 , 2F064JJ01 , 2F064KK04 , 5F046BA05 , 5F046CB02 , 5F046CB05 , 5F046CB25 , 5F046DA13 , 5F046DB05 , 5F046GA03 , 5F046GB01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開昭57年第64139公報
米国特許第5835217号公報
特開平2-228505号公報

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Cited by examiner (2)

面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-268582 Applicant：株式会社ニコン
波面収差測定方法及び波面収差測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-057298 Applicant：株式会社ニコン

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