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J-GLOBAL ID：200903046884749820

光触媒構造体、その製造方法およびその用途

Inventor： 藤田 真夫 ,  谷口 晃一 ,  原田 功 ,  中野 欣紀 ,  久保 純一
Applicant, Patent owner： レンゴー株式会社
Agent (1)： 高島 一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000007205
Publication number (International publication number)：2001198472
Application date： Jan. 14, 2000
Publication date： Jul. 24, 2001
Summary：

【要約】【課題】 光照射下において、有害物質等を効率的に除去することができる光触媒構造体、その製造方法およびその用途を提供すること。【解決手段】 光触媒を担持し、かつ無機イオン交換体を実体内に有する親水性高分子多孔質体より成ることを特徴とする光触媒構造体。

Claim (excerpt)：

光触媒を担持し、かつ無機イオン交換体を実体内に有する親水性高分子多孔質体より成ることを特徴とする光触媒構造体。

IPC (9)：

B01J 35/02 ,  A61K 9/20 ,  A61L 9/00 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 31/38 ,  B01J 37/00 ,  B01J 41/08 ,  C08K 3/22 ,  C08L101/14

FI (9)：

B01J 35/02 J ,  A61K 9/20 ,  A61L 9/00 C ,  B01J 31/38 M ,  B01J 37/00 K ,  B01J 41/08 A ,  C08K 3/22 ,  C08L101/14 ,  B01D 53/36 ZAB J

F-Term (85)：

4C076AA36 ,  4C080AA10 ,  4C080BB10 ,  4C080MM02 ,  4C080NN04 ,  4C080NN24 ,  4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AA08 ,  4D048AA11 ,  4D048AA19 ,  4D048AA20 ,  4D048AA22 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA09Y ,  4D048BA11X ,  4D048BA13X ,  4D048BA16X ,  4D048BA19Y ,  4D048BA27Y ,  4D048BA41X ,  4D048BA45X ,  4D048BB01 ,  4D048BB17 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA07A ,  4G069BA07B ,  4G069BA10A ,  4G069BA16A ,  4G069BA29A ,  4G069BA29B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC35A ,  4G069BC35B ,  4G069BC43A ,  4G069BC60A ,  4G069CA12 ,  4G069CA13 ,  4G069CA17 ,  4G069CA19 ,  4G069EB18Y ,  4G069ED02 ,  4G069FA02 ,  4G069FB06 ,  4G069FB08 ,  4G069FB14 ,  4G069FB17 ,  4G069FB19 ,  4G069FB80 ,  4G069ZA02A ,  4G069ZA03A ,  4G069ZA06A ,  4G069ZA11A ,  4G069ZA12A ,  4G069ZA15A ,  4G069ZA36A ,  4J002AB011 ,  4J002AB031 ,  4J002AB051 ,  4J002AD031 ,  4J002BB061 ,  4J002BE021 ,  4J002BE061 ,  4J002BG131 ,  4J002DE096 ,  4J002DE106 ,  4J002DE136 ,  4J002DE287 ,  4J002DH047 ,  4J002DJ007 ,  4J002DJ017 ,  4J002DJ037 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002GD00 ,  4J002GD02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• 酸化チタン担持紙
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-325142   Applicant：三菱製紙株式会社
• 光触媒薄膜の活性測定方法及び活性測定フィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-348073   Applicant：東陶機器株式会社
• ケイ酸塩含有シート
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-165546   Applicant：リンテック株式会社
• 有害物質除去剤およびそれを用いた有害物質除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-131232   Applicant：石原産業株式会社
• 光触媒製品およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-347521   Applicant：倉敷繊維加工株式会社
• 無機多孔結晶-親水性高分子複合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-199450   Applicant：レンゴー株式会社
• 特開昭55-165929
  
• セルロース多孔体およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-352758   Applicant：レンゴー株式会社
• ビスコーススポンジ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-118448   Applicant：ダイワボウレーヨン株式会社
• 特開平3-231942