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J-GLOBAL ID：200903047007513650

微粒子分散複合薄膜形成方法および形成装置

Inventor： 伴 雅人 ,  清水 茂 ,  尾角 英毅 ,  末光 毅
Applicant, Patent owner： 川崎重工業株式会社
Agent (1)： 関 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004333367
Publication number (International publication number)：2006142159
Application date： Nov. 17, 2004
Publication date： Jun. 08, 2006
Summary：

【課題】 ナノ材料である微粒子の機能を損ねることなく各種ナノ材料を適度に分散した状態で基板上に固定する汎用的な方法とそれを実現する装置を提供する。【解決手段】 成膜物質に含まれる元素を成分とする化合物を含む溶媒に微粒子を溶解または分散させた原料溶液をエアロゾル化し、生成したエアロゾルを真空の容器内に導入してプラズマ化し、プラズマ化学的気相蒸着(CVD)法により堆積させることによって、微粒子13が分散した状態で混入した、堆積物元素を含む薄膜12を被処理物表面10に形成して複合薄膜を得る。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

薄膜生成物質に含まれる元素を成分とする化合物を含む溶媒に微粒子を溶解または分散させた原料溶液をエアロゾル化し、該生成したエアロゾルを真空容器内に導入してプラズマを作用させ、化学的気相蒸着(CVD)法により該真空容器内に配置された被処理物上に膜状に堆積させることによって、前記堆積物元素を含んで形成され前記微粒子が分散した状態で混入した薄膜を被処理物表面に形成することを特徴とする微粒子分散複合薄膜形成方法。

IPC (2)：

B05D 1/02 ,  B05D 3/04

FI (2)：

B05D1/02 Z ,  B05D3/04 C

F-Term (34)：

4D075AA02 ,  4D075AA09 ,  4D075AE03 ,  4D075BB22X ,  4D075BB44Y ,  4D075BB49Y ,  4D075BB52Y ,  4D075BB54Y ,  4D075BB56X ,  4D075BB85Y ,  4D075CA02 ,  4D075CA06 ,  4D075CA13 ,  4D075CA36 ,  4D075CA39 ,  4D075CA44 ,  4D075DA06 ,  4D075DB02 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC15 ,  4D075DC18 ,  4D075DC30 ,  4D075EA07 ,  4D075EA10 ,  4D075EB01 ,  4D075EB05 ,  4D075EB16 ,  4D075EB43 ,  4D075EC01 ,  4D075EC05 ,  4D075EC07 ,  4D075EC10 ,  4D075EC30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 薄膜の作成方法と作成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-330494   Applicant：松下電器産業株式会社, 藤田克彦
• 成膜装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-065630   Applicant：株式会社リコー