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J-GLOBAL ID:200903055540352962
薄膜の作成方法と作成装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (3):
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002330494
Publication number (International publication number):2004160388
Application date: Nov. 14, 2002
Publication date: Jun. 10, 2004
Summary:
【課題】本発明は、真空蒸着法やスピンコート法で成膜できなかった発光材料、光電変換材料等の材料を成膜することができ、電子デバイスに用いる機能性薄膜材料の選択性を広げることができるとともに、高性能の電子デバイスの作成を可能とする薄膜の作成方法と作成装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の薄膜の作成方法は、原料液1をエアロゾル化し、エアロゾル15を加熱して、基板19上に堆積させて薄膜を形成する薄膜の作成方法であって、基板19方向にキャリアガス13aを流しエアロゾル15を搬送する、エアロゾル15の粒子を分級する、エアロゾル15と基板19との間に電位差を生じさせる、原料液1を静電噴霧してエアロゾル化する、の内少なくとも1つを含む構成とした。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
原料液をエアロゾル化し、前記エアロゾルを加熱して、基板上に堆積させて薄膜を形成する薄膜の作成方法であって、
前記基板方向にキャリアガスを流し、前記エアロゾルを搬送することを特徴とする薄膜の作成方法。
IPC (8):
B05D3/02
, B05B1/24
, B05B5/025
, B05B5/08
, B05B7/06
, B05D1/04
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (9):
B05D3/02 A
, B05B1/24
, B05B5/025 Z
, B05B5/08 J
, B05B7/06
, B05D1/04 Z
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/14 Z
F-Term (28):
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4D075AA09
, 4D075AA22
, 4D075AA25
, 4D075AA34
, 4D075AA71
, 4D075AA76
, 4D075AA86
, 4D075BB22X
, 4D075DA06
, 4D075DB14
, 4D075DC21
, 4D075EA02
, 4D075EA05
, 4F033AA01
, 4F033BA01
, 4F033BA03
, 4F033DA01
, 4F033EA01
, 4F033HA02
, 4F034BA31
, 4F034BB04
, 4F034BB12
, 4F034CA11
, 4F034DA05
, 4F034DA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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有機エレクトロルミネッセンス薄膜の作製方法と作製装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-265210
Applicant:科学技術振興事業団
-
超微粒子の成膜,成形方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-174048
Applicant:工業技術院長
-
物質製造
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-593789
Applicant:インペリアルカレッジオブサイエンス,テクノロジーアンドメディシン
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