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J-GLOBAL ID:200903047202360442
ガスバリアフィルム、およびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
山下 昭彦
, 岸本 達人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005352047
Publication number (International publication number):2007152772
Application date: Dec. 06, 2005
Publication date: Jun. 21, 2007
Summary:
【課題】本発明は、低温で高速成膜され、水蒸気、酸素等に対するガスバリア性、耐屈曲性、緻密性、透明性等に優れたバリア層を有するガスバリアフィルムを提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、基板フィルムと、上記基板フィルムの少なくとも一方の面に、HW-CVD法により形成されたバリア層と、を有するガスバリアフィルムであって、上記バリア層が、原子数比Si:O:N:C=1:0.01〜1.5:0.10〜1.33:0.01〜1.00を有し、かつ、赤外分光法による800〜900cm-1の範囲内の上記バリア層の最大吸光度が、1200〜1300cm-1の範囲内の最大吸光度に対して、1〜10倍であることを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板フィルムと、前記基板フィルムの少なくとも一方の面に、HW-CVD法により形成されたバリア層と、を有するガスバリアフィルムであって、
前記バリア層が、Si:O:N:C=1:0.01〜1.5:0.10〜1.33:0.01〜1.00の範囲内である原子数比を有し、
前記バリア層を赤外分光法により測定した際に、800〜900cm-1の範囲内の最大吸光度が、1200〜1300cm-1の範囲内の最大吸光度に対して、1〜10倍であることを特徴とするガスバリアフィルム。
IPC (3):
B32B 9/00
, C23C 16/30
, C08J 7/04
FI (3):
B32B9/00 A
, C23C16/30
, C08J7/04 P
F-Term (34):
4F006AA35
, 4F006AB39
, 4F006BA05
, 4F006DA01
, 4F100AA12B
, 4F100AA20B
, 4F100AK42
, 4F100AR00B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100EH66
, 4F100EJ68
, 4F100GB15
, 4F100JD02
, 4F100JD02B
, 4F100JD04
, 4F100JK04
, 4F100JK17
, 4F100JL10B
, 4F100JN01
, 4F100JN18B
, 4F100JN30B
, 4K030AA01
, 4K030BA29
, 4K030BA36
, 4K030BA38
, 4K030BA42
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030FA17
, 4K030GA12
, 4K030GA14
, 4K030LA02
, 4K030LA24
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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有機EL素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-021975
Applicant:パイオニア株式会社
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特開昭63-40314号公報
Cited by examiner (3)
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