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J-GLOBAL ID:200903098263234974
窒化シリコン膜及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
木森 有平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003085721
Publication number (International publication number):2004292877
Application date: Mar. 26, 2003
Publication date: Oct. 21, 2004
Summary:
【課題】バリア性が高く、透明で密着性に優れた窒化シリコン膜を、低温で高速成膜する。【解決手段】化学気相成長法、特に触媒CVD法により成膜される窒化シリコン膜である。基板温度160°C以下で成膜され、その組成をSiNxと表したときに1.05≦x≦1.33であり、屈折率が1.8以上、1.96以下である。膜中には、NH結合が存在している。成膜に際しては、モノシラン、アンモニア及び水素を供給するとともに、通電加熱されたワイヤで接触分解させ、温度160°C以下の基板上に堆積させる。このとき、モノシラン、アンモニア及び水素の流量比は、モノシラン1に対してアンモニアが1以上、30以下、水素が5以上、400以下とする。【選択図】 図9
Claim (excerpt):
化学気相成長法により成膜される窒化シリコン膜であって、
基板温度160°C以下で成膜され、その組成をSiNxと表したときに1.05≦x≦1.33であり、波長633nmでの屈折率が1.8以上、1.96以下であることを特徴とする窒化シリコン膜。
IPC (4):
C23C16/42
, B32B9/00
, C01B21/06
, H01L21/318
FI (4):
C23C16/42
, B32B9/00 A
, C01B21/06 N
, H01L21/318 B
F-Term (28):
4F100AA12B
, 4F100AB11
, 4F100AH05
, 4F100AT00
, 4F100BA02
, 4F100EH66B
, 4F100EJ59
, 4F100JD02
, 4F100JK17A
, 4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030AA17
, 4K030BA40
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030FA10
, 4K030JA05
, 4K030JA10
, 4K030JA12
, 4K030LA01
, 5F058BA07
, 5F058BA20
, 5F058BC08
, 5F058BF04
, 5F058BF23
, 5F058BF30
, 5F058BF37
, 5F058BJ10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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特開昭61-159576
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薄膜製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-265243
Applicant:ソニー株式会社, 松下電器産業株式会社, 富士通株式会社, 北陸先端科学技術大学院大学長
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薄膜製造装置および薄膜製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-258336
Applicant:ソニー株式会社, 北陸先端科学技術大学院大学長
-
半導体膜形成方法及び薄膜半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-352455
Applicant:ソニー株式会社
-
窒化シリコン層およびその成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-175517
Applicant:ソニー株式会社
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バリアー性積層体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-283456
Applicant:凸版印刷株式会社
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成膜装置の内壁堆積物検出方法及び監視装置付き成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-266349
Applicant:シグマ光機株式会社, 北陸先端科学技術大学院大学長
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触媒化学蒸着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-259432
Applicant:松村英樹, アネルバ株式会社
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触媒化学蒸着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-221008
Applicant:アネルバ株式会社
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